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主分类

分类号	描述

G	物理

G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术		查看

G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备		查看

G03F1-00	用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备		查看

	G03F1-20	.用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备	查看

	G03F1-22	.用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外	查看

	G03F1-26	.相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备	查看

	G03F1-36	.具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺	查看

	G03F1-38	.具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备	查看

	G03F1-50	.未包含在G03F 1/20-G03F 1/26组中的空白掩膜；其制备	查看

	G03F1-52	.反射镜	查看

	G03F1-54	.吸收剂，例如不透明材料	查看

	G03F1-60	.基板	查看

	G03F1-62	.薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备	查看

	G03F1-66	.专门适用于掩膜，空白掩膜或薄膜的容器；其制备	查看

	G03F1-68	.未包含在G03F 1/20至G03F 1/50组中的制备工艺	查看

	G03F1-88	.通过制备具有模拟浮雕的原版的照相过程的制备	查看

	G03F1-90	.采用蒙太奇方法制备	查看

	G03F1-92	.从印刷表面制备	查看

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