G03F1-26_.相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备_专利分类查询_专利查询网_专利查询_钻瓜专利网_专利网_专利查询网_专利交易网

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分类号	描述

G	物理

G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术		查看

G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备		查看

G03F1-00	用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备		查看

G03F1-26	.相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备		查看

	G03F1-28	..在相同的PSM上具有三个或更多不同的相位；其制备	查看

	G03F1-29	..凸缘PSM或者边框型PSM；其制备	查看

	G03F1-30	..交替式PSM，例如Levenson-Shibuya PSM；其制备	查看

	G03F1-32	..衰减 PSM [att-PSM], 例如半色调PSM或者有半透明相移部分的PSM；其制备	查看

	G03F1-34	..相边缘PSM,例如无铬PSM；其制备	查看

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周一至周五 9:00-18:00

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