[发明专利]抗反射的萤幕滤镜及其制造方法

权利要求书

1、一种抗反射的萤幕滤镜，包含有四层镀膜结构，其特征在于接近基板的第一层镀膜由一折射率在波长520奈米时为1.85至2.1的导电氧化材料所组成，其厚度在25至50奈米之间；第二层镀膜位于第一层的上方，由折射率在波长520奈米时为1.45至1.5的氧化物所组成，其厚度在10至30奈米之间；第三层镀膜位于第二层镀膜的上方，由折射率在波长520奈米时为1.9至2.2抗化学药品的氧化物所组成，此层的厚度在40至60奈米之间；第四层镀膜位于第三层镀膜的上方，由折射率在波长520奈米时为1.45至1.5的氧化物所组成，此层的厚度在85至100奈米之间；

2、如权利要求1所述的抗反射的萤幕滤镜，其特征在于：该基板为塑胶。

3、如权利要求1所述的抗反射的萤幕滤镜，其特征在于：该基板为玻璃。

4、如权利要求1所述的抗反射的萤幕滤镜，其特征在于：第一层镀膜为ITO，第二层镀膜为SiO₂，第三层镀膜为SnO₂，第四层镀膜为氧化硅。

5、如权利要求1所述的抗反射的萤幕滤镜，其特征在于：第一层镀膜为选自包含ITO、IZO和/或ATO的导电氧化物组群。

6、如权利要求1所述的抗反射的萤幕滤镜，其特征在于：第二层镀膜为选自包含SiO₂和/或SiAl-Oxide的氧化物组群。

7、如权利要求1所述的抗反射的萤幕滤镜，其特征在于：第三层镀膜为选自包含SnO₂和/或ZnO氧化物组群。

8、如权利要求1所述的抗反射的萤幕滤镜，其特征在于：第四层镀膜为选自包含SiO₂、SiAl-Oxide和/或SiO化合物的导电化物组群。

9、一种抗反射的萤幕滤镜的制造方法，其特征在于：所述多数层镀膜由真空镀膜及湿式镀膜方式的结合制程而形成。

10、如权利要求9所述的抗反射的萤幕滤镜的制造方法，其特征在于：该真空镀膜方式包含了热蒸镀及溅镀方式。

11、如权利要求9所述的抗反射的萤幕滤镜的制造方法，其特征在于：该湿式镀膜则包含了旋转镀膜、喷溅镀膜、铸膜或由溶液中滚动镀膜及凝胸或是泥浆的镀膜制程。