[发明专利]抗反射的萤幕滤镜及其制造方法

说明书

本发明系有关于一种用于阴极射线管(CRT)玻璃基板的镀膜制造方法，此镀膜包含一光学效果层系统，具有高的抗反射以及低电阻效应。更具体地来说，本发明提供一种抗反射的萤幕滤镜及其结合真空溅镀及湿式镀膜的制造方法，其中真空溅镀提供高导电性氧化层，湿式镀膜形成氧化硅表面层。

现有技术中，萤幕滤镜常采用蒸镀或溅镀的镀膜方法。美国专利4,921,760号揭示一种在CeO₂层和合成树脂间具有良好的附著特性的多层抗反射层镀膜。这个多层膜的系统包括了下列物质：CeO₂、Al₂O₃、ZrO₂、SiO₂、TiO₂和Ta₂O₅，在这个多层系统中的薄膜全都是由真空蒸镀或是溅镀过程所产生，并且其中有三到五层薄膜。举例来说，一个五层结构的总厚度约为3580埃，在这个五层结构中最厚的两层薄膜分别为CeO₂(1360埃)以及SiO₂(1220埃)。

美国专利5,105,310号揭示一种藉由反应溅镀(reactive sputtering)且设计用在线上镀膜机器的多层抗反射镀膜。而这个多层膜结构包含了TiO₂、SiO₂、ZnO、ZrO₂，和Ta₂O₅，在这多层系统中的薄膜全都是由真空蒸镀或是溅镀过程所产生，并且其中有四到六层薄膜。举例来说，一个六层结构的总厚度约为4700埃，且在这个六层结构中最厚的两层薄膜分别为ZnO(1370埃)以及SiO₂(1360埃)。

美国专利5,091,244号和5,407,733揭示一种新式的导电性光衰减抗反射层镀膜。这些专利主要揭露一种可提供导电、光衰减及反光表面的某些过渡元素氮化物材料，这个多层结构包含了TiN、NbN、SnO₂,SiO₂、Al₂O₃、和Nb₂O₅，在这个多层结构中的薄膜材料为氮化物及氧化物，在此多层结构中有三到四层薄膜。在专利中的例子，一个四层结构的总厚度约为1610埃，且其中最厚的两层薄膜分别为ZnO(650埃)以及SiO₂,(820埃)，这两层薄膜对于可见光的穿透率都低于百分之五十。所有的薄膜都是由真空蒸镀或是溅镀过程所产生。

美国专利5,147,125号揭示一种使用氧化锌，以提供对于波长小于380奈米(nm)抗紫外光的多层抗反射膜。这个多层系统包括了TiO₂、SiO₂、ZnO和MgF₂。所有的薄膜是由真空蒸镀或是溅镀过程所产生。在这个多层系统中有四到六个薄膜层。在专利中的例子里，一个五层结构的总厚度约为7350埃，且其中最主要的两层薄膜分别为ZnO(4390埃)及MgF₂(1320埃)。所有薄膜都是由真空蒸镀或是溅镀过程所产生。

美国专利5,170,291号揭示一种具有光学效应及高抗反射效应的四层结构。这些层乃是由热解(pyrolitic)方式、电浆化学气相沉积法、溅镀法及化学沉积法所形成。其包含了SiO₂、TiO₂、Al₂O₃、ZnS、MgO及Bi₂O₃。在专利说明的范例中，一个四层结构的总厚度约为2480埃。最主要的两层薄膜分别为TiO₂(1040埃)及SiO₂(940埃)。