[发明专利]N,N′-二烷基链烷二胺的新制备方法有效
申请号: | 00800352.1 | 申请日: | 2000-03-15 |
公开(公告)号: | CN1296472A | 公开(公告)日: | 2001-05-23 |
发明(设计)人: | 高野安広;坂寺薰;森崎让治;山田国博;水田秀树;伊藤尚登 | 申请(专利权)人: | 三井化学株式会社 |
主分类号: | C07C209/08 | 分类号: | C07C209/08;C07C211/09 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吴大建,王其灏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 烷基 链烷二胺 制备 方法 | ||
1.一种制备N,N’-二烷基链烷二胺的方法,该方法通过式(1)所示的二卤烷烃与式(2)所示的低级烷基胺反应制得式(3)所示的N,N’-二烷基链烷二胺,
式(1)中,R1和R2是氢原子或低级烷基,X是氯、溴或碘原子,n是2-6的整数,
R-NH2 (2)
式(2)中,R是低级烷基,
式(3)中,R1和R2是氢原子或低级烷基,X是氯、溴或碘原子,n是2-6的整数,该方法的特征在于:在进行反应的同时,相对于1mol式(2)所示的低级烷基胺,式(4)所示的卤代链烷胺中间体的残余量控制在0.002mol或更低,
式(4)中,R是低级烷基,R1和R2是氢原子或低级烷基,X是氯、溴或碘原子,n是2-6的整数。
2.根据权利要求1的制备方法,其中,相对于1mol式(1)所示的二卤烷烃,式(2)所示的低级烷基胺的用量为5mol或更多。
3.根据权利要求1的制备方法,其中,二卤烷烃与低级烷基胺的反应通过将二卤烷烃滴加到间歇反应器中的低级烷基胺中进行。
4.根据权利要求1的制备方法,其中二卤烷烃与低级烷基胺的反应在容器型连续反应器或管式连续反应器中进行。
5.根据权利要求1的制备方法,其中二卤烷烃与低级烷基胺的反应在多级容器型连续反应器中进行。
6.根据权利要求1的制备方法,其中二卤烷烃与低级烷基胺的反应在管式连续反应器中进行。
7.根据权利要求6的制备方法,其中通过将式(1)所示的二卤烷烃和式(2)所示的低级烷基胺加入到管式连续反应器中进行反应,分批或连续加入二卤烷烃,其加料位置应能使得,相对于1mol低级烷基胺而言,反应器管中式(4)所示的卤代链烷胺的残余量被控制在0.002mol或更低。
8.根据权利要求1-7中任一项的制备方法,其中,相对于1mol式(2)所示的低级烷基胺,反应体系中式(4)所示的卤代烷基胺的残余量为0.001mol或更低。
9.根据权利要求1-8中任一项的制备方法,其中反应在50-250℃下进行。
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