[发明专利]沉积物去除、光学元件保护方法、器件制造法和光刻设备有效
| 申请号： | 200510119945.6 | 申请日： | 2005-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN1766731A | 公开（公告）日： | 2006-05-03 |
| 发明（设计）人： | M·M·J·W·范赫彭;V·Y·巴尼内;J·H·J·莫尔斯;C·I·M·A·斯皮;D·J·W·克鲁德;P·C·扎姆 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张雪梅;张志醒 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 沉积物 去除 光学 元件 保护 方法 器件 制造 光刻 设备 | ||
【说明书】：
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