[发明专利]热转印装置及以其制作显示器的方法

权利要求书

1.一种热转印装置，其特征在于，所述热转印装置包括：

一热转印层，在施予外加能量于该热转印层时，该热转印层可产生光调变作用；

一印刷头，用以将热能传递至该热转印层；

至少一热转印单元，是由该热转印层吸收热能而形成；及

一基板，其接受该至少一热转印单元，以于该基板上形成至少一光调变单元。

2.如权利要求1所述的热转印装置，其特征在于，该印刷头包含一光热转换元件，以将热能传递至该热转印层。

3.如权利要求1所述的热转印装置，其特征在于，该热转印层包含液晶、包覆型液晶、包覆型电泳显示介质、包覆型液态粉体显示介质或包覆型电湿润显示介质。

4.如权利要求3所述的热转印装置，其特征在于，该包覆型液晶包含包覆对掌性向列型液晶。

5.如权利要求1所述的热转印装置，其特征在于，其中施予在该热转印层的外加能量是由为电场、电磁波或热源提供。

6.一种热转印装置，其特征在于，包括：

一热转印介质，其包含一热转印层及一光热转换层，该热转印层在施予外加能量时可产生光调变作用；

一印刷头，其传导电磁波至该热转印介质，以通过该光热转换层将光转换成热能；

至少一热转印单元，其是由该热转印层吸收热能而形成；及

一基板，接受该至少一热转印单元，以在该基板上形成至少一光调变单元。

7.如权利要求6所述的热转印装置，其特征在于，该热转印层包含液晶、包覆型液晶、包覆型电泳显示介质、包覆型液态粉体显示介质或包覆型电湿润显示介质。

8.如权利要求7所述的热转印装置，其特征在于，该包覆型液晶包含包覆对掌性向列型液晶。

9.如权利要求6所述的热转印装置，其特征在于，其中施予在该热转印层的外加能量是由电场、电磁波或热源提供。

10.一种显示器热转印制作方法，其包括：

提供一第一基板，其具有至少一第一像素电极形成于其上面；

提供一热转印层于该第一像素电极上方，其中该热转印层在施予外加能量时可产生光调变作用；

提供热能予该热转印层的至少一定义区域，以使该至少一定义区域吸收热能后，形成至少一热转印单元并沉积于对应的一该第一像素电极上；及

形成至少一第二像素电极于该至少一热转印单元上，以构成至少一像素，以供做至少一光调变单元。

11.如权利要求10所述的显示器热转印制作方法，其特征在于，该方法还包含形成一第二基板于该至少一第二像素电极上方。

12.如权利要求10所述的显示器热转印制作方法，其特征在于，该沉积步骤包含干燥制程。

13.如权利要求10所述的显示器热转印制作方法，其特征在于，该沉积步骤包含表面聚合制程。

14.如权利要求10所述的显示器热转印制作方法，其特征在于，该方法还包含形成一格状结构物于所述第一像素电极上。

15.如权利要求14所述的显示器热转印制作方法，其特征在于，该至少一热转印单元沉积于该格状结构物的一格子内。

16.如权利要求11所述的显示器热转印制作方法，其特征在于，该热转印层包含液晶、包覆型液晶、包覆型电泳显示介质、包覆型液态粉体显示介质或包覆型电湿润显示介质。

17.如权利要求16所述的显示器热转印制作方法，其特征在于，该包覆型液晶包含包覆对掌性向列型液晶。

18.一种显示器热转印制作方法，其包括：

提供一热转印层于一第一基板上；

提供热能予该热转印层的至少一定义区域，以形成至少一热转印单元，该至少一热转印单元脱离该热转印层并沉积于该第一基板上而对应该至少一定义区域；

其中该至少一热转印单元在施予外加能量时，可供做一光调变单元。

19.如权利要求18所述的显示器热转印制作方法，其特征在于，该方法还包含形成一第二基板于该至少一热转印单元上。