[发明专利]超声波探伤方法和超声波探伤装置有效
申请号: | 200680001305.8 | 申请日: | 2006-01-11 |
公开(公告)号: | CN101069095A | 公开(公告)日: | 2007-11-07 |
发明(设计)人: | 桂浩章;上田阳一郎;后川和也 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | G01N29/04 | 分类号: | G01N29/04;G01N29/28 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 沈昭坤 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 超声波 探伤 方法 装置 | ||
1.一种超声波探伤装置,其特征在于,
设置有介质槽和超声波探头,
所述介质槽中,用高分子膜封闭底面的开口而密封所述介质槽,使内部减 压,将所述高分子膜吸附在所述底面,并在所述内部注入了超声波传导介质,
所述超声波探头至少将前端浸渍在所述介质槽中装有的超声波传导介质 中,
同时使检查对象和所述介质槽相对移动并使检查对象和所述高分子膜接 触,然后设定所述超声波探头和所述检查对象之间的距离,使得从所述超声波 探头发送的超声波经由所述高分子膜后在检查对象位置处反射,再经由所述高 分子膜后用所述超声波探头来接收,来进行检查。
2.如权利要求1中所述的超声波探伤装置,其特征在于,
设置有多个能够更换的超声波探头。
3.一种超声波探伤装置,其特征在于,
设置有介质槽和超声波探头,
所述介质槽中,用高分子膜封闭底面的开口而密封所述介质槽,使内部减 压,将所述高分子膜吸附在所述底面,并使在底面侧的端面开口的孔减压,使 所述高分子膜吸附保持在所述底面而密封所述介质槽,在所述内部注入了超声 波传导介质,
所述超声波探头至少将前端浸渍在所述介质槽中装有的超声波传导介质 中的超声波探头,
使检查对象和所述介质槽相对移动并使检查对象和所述高分子膜接触,设 定所述超声波探头和所述检查对象之间的距离,使得从所述超声波探头发送的 超声波经由所述高分子膜后在检查对象位置处反射,再经由所述高分子膜后用 所述超声波探头来接收,来进行检查。
4.一种超声波探伤装置,
设置有介质槽和超声波探头,
所述介质槽中,用高分子膜封闭底面的开口而密封所述介质槽,使内部减 压,将所述高分子膜吸附在所述底面,并在所述内部注入了超声波传导介质,
所述超声波探头至少将前端浸渍在所述介质槽中装有的超声波传导介质 中,
其特征在于,
使所述介质槽的前端比介质槽的底端细,再使该前端的部分覆盖所述高分 子膜,并封闭所述介质槽的前端开口,
使检查对象和所述介质槽相对移动并使检查对象和所述高分子膜接触,设 定所述超声波探头和所述检查对象之间的距离,使得从所述超声波探头发送的 超声波经由所述高分子膜后在检查对象位置处反射,再经由所述高分子膜后用 所述超声波探头来接收,来进行检查。
5.一种超声波探伤方法,其特征在于,
用高分子膜封住介质槽的底面开口并密封,并使所述高分子膜吸附在介质 槽的底部,
一面将所述介质槽的内部减压,一面注入超声波传导介质,使得至少浸渍 超声波探头的前端,
使检查对象和所述介质槽相对移动并使检查对象和所述高分子膜接触,设 定超声波探头和所述检查对象之间的距离,使得从所述超声波探头发送的超声 波在检查对象位置上反射并用所述超声波探头接收,来进行检查。
6.一种超声波探伤方法,其特征在于,
用高分子膜封住介质槽的底面开口并密封,在所述介质槽中将底面侧的端 面上开口的孔减压,使所述高分子膜吸附,注入超声波传导介质,使得至少浸 渍超声波探头的前端,
使检查对象和所述介质槽相对移动并使检查对象和所述高分子膜接触,用 所述超声波探头来接收从所述超声波探头发送并由检查对象反射的超声波,来 进行检查。
7.一种超声波探伤方法,其特征在于,
用高分子膜封住介质槽的底面开口并密封,将所述介质槽的内部进行减 压,使所述高分子膜吸附在所述介质槽的底部,
一面将所述介质槽的内部减压,一面注入超声波传导介质,使得至少浸渍 超声波探头的前端,
在使检查对象和所述介质槽相对移动并使检查对象和所述高分子膜接触 的状态下向所述介质槽的内部施加更大的压力,
用所述超声波探头来接收从所述超声波探头发送并由检查对象反射的超 声波,来进行检查。
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