[发明专利]使导电层图形化的方法、制备偏振片的方法以及使用该方法制备的偏振片

说明书

技术领域

本发明涉及一种使导电层图形化的方法，一种制备偏振片的方法 以及一种使用该方法制备的偏振片。

本申请要求向韩国知识产权局于2005年6月13日提交的韩国专 利申请号10-2005-0050416，以及于2006年1月10日提交的韩国专利 申请号10-2006-0002769的申请日的权益，其公开在此全部引入作为参 考。

背景技术

偏振片是一种从非偏振光，如自然光中提取具有特定振动方向的 线性偏振光的光学元件。偏振片用于如太阳镜、照相机的滤光片、运 动护目镜、汽车的前灯和显微镜的偏振膜的广泛领域。近来，偏振片 在液晶显示器的应用已经增加。

在图1中，作为偏振片的例子的纳米格栅偏振片使用导电纳米格 栅产生偏振作用。然而，因为复杂的制备工艺、低效率和难于制备具 有大面积的偏振片，所以不可能将常规纳米格栅偏振片用于液晶显示 器。

详细地，一般使用下述两种方法制备常规纳米格栅偏振片。

图3图解说明了一种方法。根据该方法，在如玻璃或石英的无机 基板上形成导电金属层，以及在导电金属层上形成光致抗蚀剂层。接 着，使用光掩膜对光致抗蚀剂层进行选择性的曝光并显影从而形成图 形。随后，使用图形化的光致抗蚀剂层刻蚀层叠于光致抗蚀剂层下面 的导电金属层，以使导电金属层图形化。随后，将光致抗蚀剂层除去。

图4示出了另一种方法。根据该方法，在无机基板上形成导电金 属层，以及在导电金属层上形成光致抗蚀剂层。接着，使用压模挤压 光致抗蚀剂层使其变形，曝光和显影以形成图形。随后，使用图形化 的光致抗蚀剂层刻蚀层叠于光致抗蚀剂层下面的导电金属层，以使导 电金属层图形化，然后将光致抗蚀剂层除去。

如上所述，制备纳米格栅偏振片的常规方法的问题在于，必须进 行导电金属层上的光致抗蚀剂层的形成、光致抗蚀剂层的图形化以及 光致抗蚀剂层的去除，以使导电金属层图形化，因此，工艺复杂并且 制备成本高。而且，由于常规方法中使用的光掩膜或压模使用电子束 或X射线制备，所以没有选择只能制备具有小面积的偏振片。因此， 不可能使用常规方法制备具有大面积的纳米格栅偏振片。

发明内容

技术问题

本发明人证实，当使用塑模法(plastic molding process)，如热模塑 或光固化法，代替常规刻蚀法使树脂图形化以形成凹槽和突起，并将 导电填充材料涂敷在树脂层上，从而利用凹槽和突起的立体形状形成 图形时，可防止由刻蚀法引起的污染和导电性原料的浪费，并且可以 以低成本通过简单的方法使导电层图形化。本发明人还证实，当使用 通过立体光刻法制备的压模以在树脂上形成凹槽和突起时，可大面积 地使导电层有效图形化，从而可制备具有大面积的纳米格栅偏振片。

因此，本发明的目的是提供一种使导电层图形化的方法，一种使 用该方法制备偏振片的方法，一种使用该方法制备的偏振片以及一种 具有该偏振片的显示器件。

技术方案

本发明的一个实施方式提供了一种使导电层图形化的方法，其包 括(a)使树脂层图形化以形成凹槽和突起，以及(b)在所述树脂层上涂敷 导电填充材料，从而利用图形化的树脂层上凹槽和突起的立体形状形 成图形。

本发明的另一个实施方式提供了一种制备偏振片的方法，其包括(a) 使树脂层图形化以形成凹槽和突起，以及(b)在所述树脂层上涂敷导电 填充材料，以利用图形化的树脂层上的凹槽和突起的立体形状形成图 形。

本发明的另一个实施方式提供了一种偏振片，所述偏振片包括图 形化以形成凹槽和突起的树脂层以及涂敷以利用树脂层上的凹槽和突 起的立体形状形成图形的导电填充材料。

本发明的另一个实施方式提供了一种具有所述偏振片的显示器 件。

附图说明

参照附图，通过详细描述其优选实施方式，本发明的上述和其它 特征及优点将变得更显而易见，其中：

图1示意性地说明了纳米格栅偏振片的工作机理；

图2为常规纳米格栅偏振片的剖面图；

图3图解说明了使用光掩膜曝光和刻蚀法的常规纳米格栅偏振片 的制备；

图4图解说明了使用纳米压印和刻蚀法的常规纳米格栅偏振片的 制备；