[发明专利]液浸式曝光系统、以及用于液浸式曝光的液体的回收方法和供给方法

权利要求书

1.一种液浸式曝光系统，其通过在投影光学装置的光学元件和衬底之间配备的液体来进行曝光过程，该液浸式曝光系统包括：

供给液体的液体供给部分；

在投影光学装置的光学元件与衬底之间的空间被液体供给部分所供给的液体所充满的状态下执行曝光过程的曝光部分；以及

回收流过曝光部分的液体的液体回收部分；

在液体回收部分中回收的液体被返回到液体供给部分中并被再利用。

2.根据权利要求1所述的液浸式曝光系统，还包括恢复流过曝光部分的液体的液体恢复部分。

3.根据权利要求2所述的液浸式曝光系统，其中，液体回收部分与液体供给部分、曝光部分和液体恢复部分独立地配备。

4.根据权利要求1所述的液浸式曝光系统，其中，液体回收部分与液体供给部分和曝光部分一起整体提供。

5.根据权利要求1到4中任一项所述的液浸式曝光系统，其中，所述液体为饱和烃化合物或者在结构中含硅原子的饱和烃化合物。

6.根据权利要求1到4中任一项所述的液浸式曝光系统，其中，所述液体为脂环烃化合物或者在其环状结构中含硅原子的环烃化合物。

7.根据权利要求6所述的液浸式曝光系统，其中，脂环烃化合物或者在其环状结构中含硅原子的环烃化合物在光程长为1mm时对于波长为193nm的ArF激光的透射率大于或等于90％。

8.根据权利要求6或7所述的液浸式曝光系统，其中，脂环烃化合物或者在其环状结构中含硅原子的环烃化合物在光程长为1mm时对于波长为248nm的KrF激光的透射率大于或等于90％。

9.根据权利要求1到8中任一项所述的液浸式曝光系统，其中，液体供给部分或者液体回收部分包括用于监控传输的液体的光学特性的监控装置。

10.根据权利要求1到9中任一项所述的液浸式曝光系统，其中，液体回收部分包括用于从恢复的或传输的液体中去除杂质的杂质去除装置，以及用于控制恢复的或传输的液体中的氧浓度的氧浓度控制装置。

11.根据权利要求10所述的液浸式曝光系统，其中，杂质去除装置包括使用酸性溶液从液体中去除碱性杂质的酸洗装置、使用碱性溶液从液体中去除酸性杂质的碱洗装置、使用纯水以从液体中去除杂质的水洗装置、以及利用沸点差异从液体中分离杂质的蒸馏装置中的一种、两种、或更多种。

12.根据权利要求10所述的液浸式曝光系统，其中，杂质去除装置包括通过经过塞满了用于吸附层析的吸收剂的塔从液体中去除杂质的塔式层析净化装置。

13.根据权利要求10所述的液浸式曝光系统，其中，杂质去除装置包括用于利用沸点差异从液体中分离杂质的蒸馏装置和用于从液体中分离不可溶解的成分的过滤装置中的至少一种。

14.根据权利要求9到13中任一项所述的液浸式曝光系统，其中，用于监控液体光学特性的监控装置包括用于在线监控被传输的液体的吸光率的吸光率测量装置。

15.根据权利要求1到13中任一项所述的液浸式曝光系统，其中，液体供给部分包括用于使液体中溶解的气体保持在期望浓度的脱气装置、和用于使液体保持在期望温度的温度调节装置。

16.根据权利要求2，3，以及5到15中任一项所述的液浸式曝光系统，其中，至少用于将液体从液体回收部分返回到液体供给部分的容器和管道由极少浸出的材料制成。

17.根据权利要求2，3，以及5到16中任一项所述的液浸式曝光系统，其中，至少用于将液体从液体回收部分返回到液体供给部分的容器和管道被用惰性气体密封起来。

18.根据权利要求2，3，以及5到17中任一项所述的液浸式曝光系统，其中，液体回收部分被配备于远离至少配备曝光部分的地点的位置。

19.一种回收用于通过在投影光学装置的光学元件和衬底之间配备的液体来执行曝光过程的液浸式曝光系统或者液浸式曝光法中的液浸式曝光液的方法，该方法包括：用于恢复液体的步骤A；用于回收被恢复的液体的步骤B；和用于将回收的液体导入投影光学装置的光学元件和衬底之间的空间并且重新使用液体的步骤C。