[发明专利]工作台装置以及涂敷处理装置有效

专利信息
申请号: 200680005872.0 申请日: 2006-02-15
公开(公告)号: CN101128918A 公开(公告)日: 2008-02-20
发明(设计)人: 山崎刚;境昌孝 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;H01L21/677;B65G49/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 温大鹏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 工作台 装置 以及 处理
【说明书】:

技术领域

本发明涉及用来输送液晶显示装置(LCD)等FPD(平板显示器)所使用的玻璃基板等基板的工作台装置以及具有该工作台装置的涂敷处理装置。

背景技术

例如在液晶显示装置(LCD)的制造工艺中,是采用光刻技术在玻璃基板上形成既定的电路图案的。即,向玻璃基板供给抗蚀剂液而形成涂敷膜,对其进行干燥、热处理之后,依次进行曝光处理和显影处理。

其中,作为向玻璃基板供给抗蚀剂液而形成涂敷膜的装置,下述涂敷膜形成装置已经公知,所述涂敷膜形成装置具有对玻璃基板进行真空水平吸附保持的载置台、向被保持在载置台上的基板供给抗蚀剂液的抗蚀剂喷嘴、以及使载置台和抗蚀剂喷嘴在水平方向上相对移动的移动机构(例如可参考专利文献1)。

但是,对玻璃基板进行真空吸附保持存在着这样的缺点,即,很容易使载置台上所设置的吸气孔的痕迹转印到玻璃基板的表面上,还会使大量微粒附着到基板的背面上。此外,由于必须使抗蚀剂喷嘴或载置台之中的某一方能够移动,因而存在着装置的体积大、结构复杂而且动力成本高等问题。

专利文献1:特开平10-156255号公报

发明内容

本发明的目的是,提供一种对基板进行涂敷处理时吸附孔的痕迹不会转印到基板上、能够减少微粒在基板背面上的附着、而且装置的结构简单的工作台装置以及使用该工作台装置的涂敷处理装置。

作为旨在实现上述任务的技术,本发明人首先就不将玻璃基板吸附保持在载置台上而边大致呈水平姿势进行输送边向该玻璃基板的表面供给抗蚀剂液来形成涂敷膜的装置进行了研究,并就边以上浮方式输送基板边在该基板的表面涂敷抗蚀剂液的上浮式基板输送处理装置申请了发明(特愿2004-44330,特愿2004-218156)。

作为该上浮式基板输送处理装置中所使用的基板上浮用工作台,有这样两种型式,一种是如图1A所示,形成有气体喷射口311和吸气口312,通过使气体的喷射量和吸气量达到平衡而使得基板从工作台表面上浮一定高度的工作台301,另一种是如图1B所示,形成有气体喷射口311和槽313,通过使气体喷射量和从槽313排气的排气量达到平衡而使得基板从工作台表面上浮一定高度的工作台305。

在图1A所示的工作台301上,气体喷射口311和吸气口312各自在基板输送方向和垂直于基板输送方向的方向上以一定的间隔在直线上排列着形成并且二者交替着形成,而在图1B所示的工作台305上,气体喷射口311在基板输送方向和垂直于基板输送方向的方向上以一定的间隔形成,槽313则在垂直于基板输送方向的方向上以一定间隔形成而其长度方向与基板输送方向一致。

然而,若如上所述设置气体喷射口311、吸气口312和槽313,将使得基板的一定区域始终从槽313上通过,而其它部分从气体喷射口311(以及吸气口312)上通过,因此,气体喷射口311、吸气口312和槽313的这种布置方式,会在抗蚀剂膜上产生条纹状转印痕迹(即导致抗蚀剂膜的厚度不均)。这种转印痕迹最终会使图象品质参差不齐。

本发明能够避免发生上述问题而实现前述目的。

根据本发明的第1观点,可提供一种工作台装置,具有在上方进行基板的输送的工作台、以及、使基板在该工作台上上浮的上浮机构,所述工作台具有用来喷射使基板上浮的气体的多个气体喷射口、以及、对从所述气体喷射口喷射的气体进行吸引的多个吸气口,所述多个气体喷射口和所述多个吸气口各自设置成,在沿着基板输送方向的既定距离内不沿着平行于基板输送方向的直线排列。

在第1观点所涉及的工作台装置中,优选地,气体喷射口的相邻间隔为1cm~5cm,吸气口的相邻间隔为1cm~5cm,多个气体喷射口和多个吸气口各自不与基板输送方向相平行地成直线排列的距离在0.2m以上。

此外,工作台还可以这样构成:具有在既定位置上形成有气体喷射孔和吸气孔的基台、由具有气体喷射口的多孔性材料制成的第1块材、以及、由具有吸气口的多孔性材料制成的第2块材;第1、第2块材这样设置在基台上,即,使得第1块材上所形成的气体喷射口与基台上所形成的气体喷射孔连通、第2块材上所形成的吸气口与基台上所形成的吸气孔连通。

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