[发明专利]弹性体的连续收缩——一种产生微米和纳米结构的简单微型化方法无效

专利信息
申请号: 200680018621.6 申请日: 2006-05-30
公开(公告)号: CN101189106A 公开(公告)日: 2008-05-28
发明(设计)人: 刘刚玉;胡军;谭俐;刘茂孜 申请(专利权)人: 加利福尼亚大学董事会
主分类号: B28B7/06 分类号: B28B7/06;B28B7/38;B28B7/40;B29C55/02;B29C61/02;B29C41/00;B29C43/00;B29C35/00;B29C33/42
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 代理人: 谢顺星
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 弹性体 连续 收缩 一种 产生 微米 纳米 结构 简单 微型 方法
【权利要求书】:

1.一种制造微结构或纳米结构的方法,该方法包括:

获得拉伸的弹性体;

在该拉伸的弹性体上制造图案;

允许该拉伸的弹性体松驰去转换该图案,以产生微结构或纳米结构。

2.一种制造微结构或纳米结构的方法,该方法包括:

a)获得第一个拉伸的弹性体和第二个拉伸的弹性体;

b)在第一个拉伸的弹性体上制造图案;

c)允许第一个拉伸的弹性体松驰而转换图案,以使产生第一个缩小尺寸的图案;

d)转移第一个缩小尺寸的图案到第二个拉伸的弹性体上;以及,

e)允许第二个拉伸的弹性体松驰去转换第一个缩小尺寸的图案,以产生第二个缩小尺寸的图案。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,

该方法还包括利用其它拉伸的弹性体作为第二个拉伸的弹性体的重复步骤d和e,其中,

从步骤e产生的第二个缩小尺寸的图案用作步骤d的第一个缩小尺寸的图案,

并且重复步骤d和e直到产生的第二个缩小尺寸的图案是微结构或纳米结构。

4.一种制造微结构或纳米结构的方法,该方法包括:

a)拉伸第一个弹性体以产生第一个拉伸的弹性体;

b)在第一个拉伸的弹性体上制造图案;

c)允许第一个拉伸的弹性体松驰去转换图案,以产生第一个缩小尺寸的图案;

d)拉伸第二个拉伸的弹性体以产生第二个拉伸的弹性体;

e)转移第一个缩小尺寸的图案到第二个拉伸的弹性体上;

f)允许第二个拉伸的弹性体松驰,转换在第二个拉伸的弹性体上的第一个缩小尺寸的图案,以产生第二个缩小尺寸的图案。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,

该方法还包括利用其它拉伸的弹性体作为第二个弹性体的重复步骤d、e、f,其中,

从步骤f产生的第二个缩小尺寸的图案用作步骤e的第一个缩小尺寸的图案,

重复步骤d、e和f直到产生的第二个缩小尺寸的图案是微结构或纳米结构。

6.根据权利要求1-5所述的方法,其特征在于,

弹性体包括一个或多个聚合体。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,

所述的聚合体从具有和不具有表面改性的橡胶、聚二甲基硅氧烷(Poly(dimethylsiloxane))(PDMS)或胶乳中选择。

8.根据权利要求2-5所述的方法,其特征在于,

弹性体包括不同的聚合体。

9.根据权利要求1-5所述的方法,其特征在于,

所述图案是生物材料、纳米微粒、纳米线、纳米管、金属、有机无机的材料或复合材料。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,

所述生物材料包括缩氨酸、蛋白质、配位体、低聚糖、核苷酸、病毒或细菌。

11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,

所述生物材料是抗体或抗原。

12.根据权利要求1-5所述的方法,其特征在于,

所述微结构或纳米结构包括用于光刻法的模具。

13.根据权利要求1-5所述的方法,其特征在于,

所述图案通过光刻技术平台制造,

其中,光刻技术平台是照相平版印刷术、扫描探针光刻技术、墨喷式印刷、阵列技术、压印光刻技术、射束刻蚀法、粒子光刻技术或微接触印刷。

14.根据权利要求1-5所述的方法,其特征在于,

所述微结构或纳米结构用于显微光刻技术和纳米光刻技术。

15.根据权利要求1-5所述的方法,其特征在于,

在弹性体表面之间图案的转移通过外部方法传递,

其中所述的外部方法是表面化学、表面等离子体处理、热处理、电场处理或磁场处理。

16.根据权利要求1-5所述的方法,其特征在于,

所述弹性体至少一维拉伸。

17.根据权利要求1-5所述的方法,其特征在于,

所述弹性体至少二维拉伸。

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