[发明专利]抗反射膜制备方法和装置

权利要求书

1.一种制备抗反射膜的抗反射膜制备方法，所述抗反射膜包含透明载体、覆盖在所述载体上的至少一个光学功能层、和低折射率层，所述低折射率层覆盖在所述光学功能层上，并且具有比所述光学功能层更低的折射率，所述抗反射膜制备方法包括：

使用用于形成所述低折射率层的液体涂布所述光学功能层的表面以形成涂层的涂布步骤；

促进所述涂层干燥的干燥步骤；

在促进干燥之后，使所述涂层热硬化以形成所述低折射率层的硬化步骤；

所述硬化步骤包括：

在用于硬化的第一温度水平加热所述涂层的第一加热步骤；

在高于所述第一温度水平的用于硬化的第二温度水平加热所述涂层的第二加热步骤。

2.如权利要求1限定的抗反射膜制备方法，所述方法还包括在所述硬化步骤之后，对所述低折射率层施加电离辐射的步骤。

3.如权利要求2限定的抗反射膜制备方法，其中所述第一和第二温度水平之差等于或高于1℃且等于或低于50℃。

4.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中在所述干燥步骤中，将干燥气体吹到所述涂层上；

在所述第一和第二加热步骤中，将分别调节到所述第一和第二温度水平的加热气体吹到所述涂层上。

5.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中所述光学功能层包含具有表面活性的氟化合物和硅氧烷化合物中的至少一种。

6.如权利要求5限定的抗反射膜制备方法，其中所述光学功能层是防眩功能层。

7.如权利要求5限定的抗反射膜制备方法，其中所述光学功能层具有等于或大于1.58且等于或小于2.0的折射率。

8.如权利要求7限定的抗反射膜制备方法，其中所述低折射率层具有等于或大于1.31且等于或小于1.45的折射率。

9.如权利要求7限定的抗反射膜制备方法，其中所述抗反射膜还包含光透射细粒，所述光透射细粒包含于所述光学功能层和所述低折射率层的至少一个中。

10.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中所述第一温度水平等于或高于70℃且等于或低于110℃。

11.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中所述第二温度水平等于或高于100℃且等于或低于160℃。

12.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中所述至少一个光学功能层至少是从所述载体依次安置的第一和第二层。

13.如权利要求12限定的抗反射膜制备方法，其中所述抗反射膜还包含在所述第二层中包含的光透射细粒。

14.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中所述至少一个光学功能层至少是从所述载体依次安置的第一至第三层。

15.如权利要求3限定的抗反射膜制备方法，其中在所述第一和第二加热步骤的每一个中，使用多根输送辊引导具有输送用U形弯曲的所述抗反射膜的片幅。

16.一种用于制备抗反射膜的抗反射膜制备装置，所述抗反射膜包含透明载体、覆盖在所述载体上的至少一个光学功能层、和低折射率层，所述低折射率层覆盖在所述光学功能层上，并且具有比所述光学功能层更低的折射率，所述抗反射膜制备装置包含：

涂布机，使用用于形成所述低折射率层的液体涂布所述光学功能层的表面以形成涂层；

干燥机，用于促进所述涂层干燥；和

加热器，用于使来自所述干燥机的所述涂层在第一温度水平硬化，然后使所述涂层在高于所述第一温度水平的第二温度水平硬化以形成所述低折射率层。

17.如权利要求16限定的抗反射膜制备装置，其中所述干燥机包含干燥室，所述干燥室作为输送抗反射膜片幅的通道，并且用于将干燥气体吹到所述涂层上；

所述加热器包含第一和第二加热室，所述第一和第二加热室用于通过输送的所述片幅，并且用于将分别调节到所述第一和第二温度水平的加热气体吹到所述涂层上。

18.如权利要求17限定的抗反射膜制备装置，所述抗反射膜制备装置还包含多根输送辊，所述多根输送辊包含于所述第一和第二加热室的每一个中，用于引导具有输送用U形弯曲的所述片幅。