[发明专利]抗反射膜制备方法和装置

说明书

                       技术领域

本发明涉及抗反射膜制备方法和装置。更具体而言，本发明涉及其中可以使用具有高质量的硬质涂层以容易的方式制备抗反射膜的抗反射膜制备方法和装置。

                       背景技术

作为光学元件，光学膜被用作图像显示板的主要部件，所述图像显示板为例如，LCD(液晶显示器)、PDP(等离子体显示板)、ELD(电致发光显示板)和CRT(阴极射线管)。根据熟知技术的光学膜包含透明载体、光学功能层和具有物理强度的保护层。所述保护层起着保持光学膜的高抗划伤性的作用。选择性确定所述层的材料和组合以构建各种类型的光学膜，如抗反射膜、防眩膜、光学补偿膜、表面生成膜等。

使用抗反射膜的目的是提高适合于识别显示板的清晰的显示性能。因为人的眼睛直接观察显示板，所以应该抑制抗反射膜的外观缺陷，如颜色缺陷和颜色不均匀。根据在显示板领域中更大的屏幕尺寸、更高的亮度和更高的精度的趋向，抗反射膜所需的质量变得越来越高。

考虑到用于图像显示器，抗反射膜的重要性能包括抗划伤性；耐磨损性；防尘性，即残留手印、水滴痕迹等的可能性小。其中，抗划伤性是重要的，因为在划伤显示器表面的情况下产生不能复原的缺陷，以致降低图像显示板的图像质量。考虑到这点，JP-A 9-145903公开了抗反射膜的一个实例，所述抗反射膜的低折射率层被安置成外层，并且为了高抗划伤性，所述抗反射膜由可光固化的树脂组合物形成并且包含细粒。

通常，通过将预定溶液的涂料涂覆到载体上，并且干燥涂层形成抗反射膜。除涂层的高质量以外，通过减少生产时间等的高生产率也是重要的。为此，由功能层的化合物和有机溶剂的混合物制备涂料溶液以便于涂覆涂料和缩短干燥时间。然而，因在输送中的冲击或振动或多余的空气流，在刚涂布之后的涂层受到波动或进行不均匀的干燥，因而将出现涂层的厚度的不均匀，从而导致外观缺陷。

WO-A 2005-063484(对应JP-A 2005-257786)公开了赋予高抗划伤性和高防尘性并且还具有抗反射膜的高生产率的提议。在该文件的抗反射膜中的涂层包含具有表面活性的添加剂和可硬化树脂的细粒、氟化合物、硅氧烷化合物等。对涂层施加电离辐射以形成低折射率层。

而且，抗反射膜的多层结构得到广泛使用，并且包含载体、硬质涂层和低折射率层。为了通过防止光散射达到抗反射效果，需要在层间的界面上具有高粘附性。JP-A 2003-311911公开了其中层间粘附可以是紧密的抗反射膜的制备。对于邻近载体的层，使用具有活性官能团的可硬化树脂。而且，调节硬化条件。

根据JP-A 9-145903和2003-311911，可以获得具有高抗划伤性和在层间界面上的高粘附性的抗反射膜。然而，防尘性和生产率可能不高。所有这三份文件的技术都具有在光学功能层上面的保护层的表面上出现粉末状白色材料，从而降低外观质量的问题。根据现有技术，不可能以高生产率制备具有高抗划伤性以及降低的外观缺陷的抗反射膜。

                       发明内容

考虑到上述问题，本发明的一个目的是提供其中可以使用具有高质量的硬质涂层以容易的方式制备抗反射膜的抗反射膜制备方法和装置。

为了实现本发明的上述和其它目的以及优点，提供了制备抗反射膜的抗反射膜制备方法，所述抗反射膜包含透明载体、覆盖在所述载体上的至少一个光学功能层、和低折射率层，所述低折射率层覆盖在所述光学功能层上，并且具有比所述光学功能层更低的折射率。所述抗反射膜制备方法包括使用用于形成低折射率层的液体涂布光学功能层的表面以形成涂层的涂布步骤。在所述抗反射膜制备方法中，有促进涂层干燥的干燥步骤。在硬化步骤中，在促进干燥之后，使涂层热硬化以形成低折射率层。所述硬化步骤包括在用于硬化的第一温度水平加热涂层的第一加热步骤。在第二加热步骤中，在高于第一温度水平的用于硬化的第二温度水平加热涂层。

此外，在硬化步骤之后，有对低折射率层施加电离辐射的步骤。

第一和第二温度水平之差等于或高于1℃且等于或小于50℃。

在干燥步骤中，将干燥气体吹到涂层上。在第一和第二加热步骤中，将分别调节到第一和第二温度水平的加热气体吹到涂层上。

所述光学功能层包含具有表面活性的氟化合物和硅氧烷化合物中的至少一种。

所述光学功能层是防眩功能层。

所述光学功能层具有等于或大于1.58且等于或小于2.0的折射率。