[发明专利]用于等离子体处理塑料组件的系统

权利要求书

1.一种等离子体处理具有外表面和内表面的塑料组件的系统，其特征在于该系统包含：

至少一个固定装置，其包括：

支承塑料组件的支承结构；

多个设在支承结构上相对于固定装置定位塑料组件的定位特征；

以及

多个设在支承结构上将塑料组件保持在固定装置上的保持装置，

其中支承结构、定位特征和保持装置一起将至少一部分外表面定位到

规定的公差内；以及

至少一个沿着路径相对于外表面移动的常压空气等离子喷嘴，其中喷嘴将等离子流导向外表面部分上，生成覆盖外表面部分的官能化聚合物层。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于支承结构包括多个间隔分开的支承部件，每个支承部件具有被设计成与邻接支承部件的一部分内表面匹配的接触表面。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于喷嘴位于距外表面部分约2到20mm处。

4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于还包含至少一个位置传感器，其对临近等离子流的外表面作出反应，并且在位置上与喷嘴连通。

5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于喷嘴和外表面以约50到600mm/秒范围的速度彼此相对移动。

6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于规定的公差为+/-5mm以内。

7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于固定装置是可移动的并且外表面部分在移动过程中被实质上保持在规定的公差内。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于还包含沿着路径相对于外表面定位和移动喷嘴的自动机械。

9.根据权利要求7所述的系统，其特征在于还包含沿着路径相对于外表面定位和移动喷嘴的轨架总成。

10.根据权利要求7所述的系统，其特征在于还包含至少一个主耳轴，其具有至少一个连接到主耳轴的固定装置，主耳轴围绕主轴线旋转，其中喷嘴与主耳轴一起沿着路径相对于外表面移动。

11.根据权利要求10所述的系统，其特征在于还包含围绕位于负载位置和处理位置间的第二轴线旋转的第二耳轴，其中主耳轴旋转地连接到第二耳轴，其中塑料组件在负载位置被放置到固定装置上并且在处理位置生成官能化聚合物层。

12.根据权利要求1所述的系统，其特征在于固定装置还包括多个设置在支承结构上的力感应器，其中每个力感应器对塑料组件放置到固定装置上时作出反应传送信号，以及至少一个响应信号自动保持塑料组件的保持装置。

13.根据权利要求12所述的系统，其特征在于保持装置是连接真空源的吸盘。

14.根据权利要求1所述的系统，其特征在于固定装置还包括设置在支承结构上的组件存在传感器，其对塑料组件放置到固定装置上时作出反应传送信号，其中喷嘴响应信号引导等离子流。

15.一种等离子体处理具有外表面和内表面的塑料组件的系统，其特征在于该系统包含：

至少一个可移动固定装置，其包括：

包括多个间隔分开的支承部件的支承结构，每个支承部件都具有

接触表面，其被设计成与邻接支承部件的一部分内表面匹配，以此支

承塑料组件；

多个设在支承结构上相对于固定装置定位塑料组件的定位特征；

以及

多个设在支承结构上将塑料组件保持在固定装置上的保持装置，

其中支承结构、定位特征和保持装置一起将至少一部分外表面定位到

规定的公差内；以及

至少一个位于离外表面部分约2到20mm处沿着路径相对于外表面以约50到600mm/秒范围的速度移动的常压空气等离子喷嘴，其中喷嘴将等离子流导向外表面部分上，生成覆盖外表面部分的官能化聚合物层。

16.根据权利要求15所述的系统，其特征在于规定公差为+/-5mm以内。