[发明专利]电子束记录装置有效
申请号: | 200780017422.8 | 申请日: | 2007-03-12 |
公开(公告)号: | CN101443847A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 小原隆;宫崎武司 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光;株式会社克莱斯泰克 |
主分类号: | G11B7/26 | 分类号: | G11B7/26;G11B9/10;G11B11/03 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 周少杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子束 记录 装置 | ||
1.一种通过使用电子束将信息记录到样本表面的电子束记录装置,包括:
电子源,其照射电子束;
磁检测器,其被配置为移动到照射轴上并移出照射轴,并获取关于照射轴的磁信息;
位置传感器,检测样本的位置以获取样本的位置信息;
会聚位置控制部分,其根据由磁检测器获取的磁信息和由位置传感器获得的位置信息,计算用于校正电子束关于样本表面的会聚位置的会聚位置校正量;以及
会聚位置调整部分,其调整电子束关于样本表面的会聚位置;
其中会聚位置控制部分使会聚位置调整部分根据会聚位置校正量调整电子束关于样本表面的会聚位置。
2.根据权利要求1所述的电子束记录装置,
其中会聚位置包括电子束的焦点位置;
会聚位置调整部分调整电子束关于样本表面的焦点位置;以及
会聚位置控制部分计算用于校正电子束在照射轴延伸方向上的焦点位置的焦点位置校正量,并使会聚位置调整部分根据焦点位置校正量调整电子束关于样本表面的焦点位置。
3.根据权利要求1或者权利要求2所述的电子束记录装置,
其中会聚位置包括电子束在垂直于照射轴延伸的方向、并且相互垂直的两个方向中的至少一个方向上的照射位置;
会聚位置调整部分调整在所述相互垂直的两个方向中的至少一个方向上、电子束关于样本表面的照射位置;以及
会聚位置控制部分计算照射位置校正量,该照射位置校正量用于校正电子束在上述相互垂直的两个方向中的至少一个方向上的照射位置,并使会聚位置调整部分根据照射位置校正量,调整在上述相互垂直的两个方向中的至少一个方向上、电子束关于样本表面的照射位置。
4.根据权利要求1所述的电子束记录装置,还包括:
旋转机构单元,其包括其上放置样本的可旋转转盘;
馈送机构单元,其将旋转机构单元的转盘移动到垂直于电子束的照射轴的平面上;以及
高度传感器,其检测被旋转机构单元旋转、并且被馈送机构单元移动的样本的表面的高度,以获取样本的高度信息;其中
位置传感器在馈送机构单元中提供;
会聚位置包括电子束的焦点位置;
会聚位置调整部分调整电子束关于样本表面的焦点位置;以及
会聚位置控制部分根据照射轴延伸方向上的磁场信息,计算用于校正电子束的焦点位置的焦点位置校正量,磁场信息由磁检测器获取,并且对应于由高度传感器获取的样本的高度信息和由位置传感器获取的样本的位置信息,并使会聚位置调整部分根据焦点位置校正量调整电子束关于样本表面的焦点位置。
5.根据权利要求1所述的电子束记录装置,还包括:
旋转机构单元,其包括其上放置样本的可旋转转盘;
馈送机构单元,其将旋转机构单元的转盘移动到垂直于电子束的照射轴的平面上;以及
高度传感器,其检测被旋转机构单元旋转、并且被馈送机构单元移动的样本的表面的高度,以获取样本的高度信息;其中
位置传感器在馈送机构单元中提供;
其中会聚位置包括电子束在垂直于照射轴延伸的方向并且相互垂直的两个方向中的至少一个方向上的照射位置;
会聚位置调整部分调整在所述相互垂直的两个方向上的至少一个方向上、电子束关于样本表面的照射位置;
其中磁检测器获取在所述相互垂直的两个方向上的至少一个方向上的磁信息;以及
会聚位置控制部分根据在所述相互垂直的两个方向上的至少一个方向上的磁场信息,计算用于校正电子束在所述相互垂直的两个方向上的至少一个方向上的照射位置的照射位置校正量,磁场信息由磁检测器获取,并且与由高度传感器获取的样本的高度信息和由位置传感器获取的样本的位置信息相对应,并使会聚位置调整部分根据照射位置校正量,调整在所述相互垂直的两个方向上的至少一个方向上、电子束关于样本表面的会聚位置。
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