[发明专利]玻璃抛光组合物及方法无效

专利信息
申请号: 200780038453.1 申请日: 2007-10-16
公开(公告)号: CN101528882A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 内文·纳吉布;凯文·莫根伯格 申请(专利权)人: 卡伯特微电子公司
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 宋 莉
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 玻璃 抛光 组合 方法
【权利要求书】:

1.一种玻璃抛光方法,其包括用含水玻璃抛光组合物研磨玻璃基板的表 面一段足以从该表面移除该玻璃的至少一部分并提供具有适用于液晶显示 器和有机发光二极管显示面板的光学品质的成品的时间;其中,该玻璃基板 包含碱土金属氧化物-Al2O3-SiO2玻璃,其中该碱土金属氧化物包含一种或多 种选自MgO、CaO、SrO及BaO的氧化物;且其中,该抛光组合物包含1至15 重量%的悬浮于含水载体中的颗粒状二氧化铈研磨剂,所述颗粒状二氧化铈 研磨剂的特征在于平均粒度为0.35μm至0.9μm,所述含水载体含有50至 1500ppm的聚合物稳定剂。

2.权利要求1的方法,其中该聚合物稳定剂包含至少一种下列聚合物: 聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚(乙烯基磺酸)、其盐及其部分中和的形式。

3.权利要求1的方法,其中该聚合物稳定剂包含至少一种下列聚合物: 聚乙烯吡咯烷酮、聚(乙烯醇)、聚(2-乙基噁唑啉)、羟乙基纤维素及黄原胶。

4.权利要求1的方法,其中抛光组合物进一步包含水溶性无机盐。

5.权利要求4的方法,其中该水溶性无机盐包含0.5至0.1重量%的铯盐。

6.一种玻璃抛光方法,其包括下列步骤:

(a)以110g/cm2或更小的下压力,使玻璃基板的表面与抛光垫及含水玻璃 抛光组合物接触;及

(b)使该抛光垫与该基板之间发生相对运动,同时保持该组合物的一部分 与在该垫及该基板之间的表面接触一段足以自该基板的表面磨除该玻璃的 至少一部分的时间;

其中,该抛光组合物包含1至15重量%的悬浮于含水载体中的颗粒状二 氧化铈研磨剂,所述颗粒状二氧化铈研磨剂的特征在于平均粒度为0.35μm至 0.9μm,所述含水载体含有50至1500ppm的聚合物稳定剂,所述玻璃基板包 含碱土金属氧化物-Al2O3-SiO2玻璃,其中该碱土金属氧化物包含一种或多种 选自MgO、CaO、SrO及BaO的氧化物。

7.权利要求6的方法,其中该聚合物稳定剂包含至少一种下列聚合物: 聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚(乙烯基磺酸)、其盐及其部分中和的形式。

8.权利要求6的方法,其中该聚合物稳定剂包含至少一种下列聚合物: 聚乙烯吡咯烷酮、聚(乙烯醇)、聚(2-乙基噁唑啉)、羟乙基纤维素及黄原胶。

9.权利要求6的方法,其中组合物进一步包含0.05至0.1重量%的水溶性 无机盐。

10.一种玻璃抛光方法,其包括用含水玻璃抛光组合物研磨玻璃基板的 表面一段足以从该表面移除该玻璃的至少一部分并提供具有适用于液晶显 示器和有机发光二极管显示面板的光学品质的成品的时间;其中,该玻璃基 板包含碱土金属氧化物-Al2O3-SiO2玻璃,其中该碱土金属氧化物包含一种或 多种选自MgO、CaO、SrO及BaO的氧化物;且其中,该抛光组合物包含1至 15重量%的悬浮于含水载体中的颗粒状二氧化铈研磨剂,该颗粒状二氧化铈 研磨剂的特征在于平均粒度至少为0.2μm且CeO2的纯度至少为99.9重量%,该 含水载体的pH值比该二氧化铈研磨剂的等电点高或低至少1个单位。

11.权利要求10的方法,其中该二氧化铈研磨剂的平均粒度为0.2μm至 11μm。

12.权利要求10的方法,其中该pH值为3至4。

13.权利要求12的方法,其中该组合物进一步包含1至20ppm的吡啶甲 酸。

14.权利要求10的方法,其中该pH值为8至9。

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