[发明专利]用在测量和勘测应用中的觇标

权利要求书

1.一种用在测量和勘测应用中的反射觇标，包括：

基元件；

布置于所述基元件的至少一个反光区域，所述至少一个反光区域被 布置为反射以平面内基本360度的角域入射的光束；以及

识别单元，其被布置于所述基元件，并包括至少一个发光元件阵列， 该发光元件阵列适于发射具有指示所述觇标的身份的预定特性的信号， 并且发射全向同步信号并激活每个发光元件，其中，基于在所述同步信 号的时间和来自个体发光元件的最强信号的时间之间的时间差，所述觇 标相对于测量仪器的旋转位置可以被确定；并且

其中：

所述至少一个反光区域和所述至少一个发光元件阵列关于所述基 元件的中轴线轴向对称地布置。

2.根据权利要求1所述的觇标，其中所述觇标包括轴向对称地布 置于所述基元件的至少两个发光元件阵列以及一个反光区域，或者轴向 对称地布置于所述基元件的至少两个发光元件阵列以及两个反光区域。

3.根据权利要求1或2所述的觇标，其中所述至少一个反光区域 以及所述发光元件阵列被周向地且旋转对称地布置于所述基元件。

4.根据权利要求1或2所述的觇标，其中所述至少一个发光元件 阵列被周向地布置，以使光束可以以平面内基本360度的角域被发射。

5.根据权利要求1或2所述的觇标，其中所述至少一个反光区域 和所述至少一个发光元件阵列被同轴地布置于所述基元件。

6.根据权利要求1或2所述的觇标，其中所述信号的所述预定特 性包括用预定频率对所述信号的调制。

7.根据权利要求1或2所述的觇标，其中所述至少一个发光元件 阵列包括发光二极管。

8.根据权利要求1或2所述的觇标，其中所述至少一个反光区域 包括反射箔。

9.根据权利要求1或2所述的觇标，其中所述至少一个反光区域 包括至少一个反射棱镜阵列。

10.根据权利要求1或2所述的觇标，其中所述觇标与测量仪器一 起使用。

11.一种测量和勘测系统，其包括至少一个根据前述权利要求1-9 中任一项所述的觇标，以及至少一个测量仪器，所述测量仪器适于：发 射光束；从所述觇标接收反射光；检测从所述觇标发射的、具有识别所 述觇标的预定特性的信号；以及通过使用所述预定特性来确定所述觇标 的身份。

12.一种用于在测量和勘测系统中确定觇标身份的方法，所述系统 包括至少一个测量仪器和至少一个觇标，所述觇标包括：基元件；布置 于所述基元件的至少一个反光区域，所述至少一个反光区域被布置为反 射以平面内基本360度的角域入射的光束；以及布置于所述基元件的识 别单元，并且包括适于发射信号的至少一个发光元件阵列，所述方法包 括：

从所述识别单元发射具有指示所述觇标的身份的预定特性的信号；

发射全向同步信号并激活每个发光元件；

在所述测量仪器处接收所述信号；

使用所接收的信号的所述预定特性，在所述测量仪器中确定所述觇 标的身份；以及

基于在所述同步信号的时间和来自个体发光元件的最强信号的时 间之间的时间差，确定所述觇标相对于所述测量仪器的旋转位置。

13.根据权利要求12所述的方法，其中发射具有预定特性的信号 的步骤包括：

用预定频率对所述信号进行调制。