[发明专利]高强度高阻尼的Ti-Ni-Nb-Mo形状记忆合金及加工工艺无效

专利信息
申请号: 200810013569.6 申请日: 2008-10-08
公开(公告)号: CN101713036A 公开(公告)日: 2010-05-26
发明(设计)人: 戎利建;陈英;姜海昌;刘树伟;闫德胜 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: C22C19/03 分类号: C22C19/03;C22F1/10
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 张志伟
地址: 110016 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 强度 阻尼 ti ni nb mo 形状 记忆 合金 加工 工艺
【权利要求书】:

1.一种高强度高阻尼的Ti-Ni-Nb-Mo形状记忆合金,其特征在于:按原子百分比计,合金化学成分如下:

镍43%~46%,铌8.0%~12.0%,钼0.1%~1.5%,余量为钛和不可避免的杂质;

所述合金化学成分中,Ti/Ni原子比范围为0.826~1.137;

所述的高强度高阻尼的Ti-Ni-Nb-Mo形状记忆合金的加工工艺,包括如下步骤:

1)在870℃~880℃下,保温30分钟/mm厚,空冷至室温;

2)在870℃~880℃下进行热加工;

3)在820℃~860℃下,保温40分钟~60分钟后进行固溶处理,水淬冷却至室温。

2.按照权利要求1所述的高强度高阻尼的Ti-Ni-Nb-Mo形状记忆合金的应用,其特征在于,该记忆合金用于结构振动或被动控制。

3.按照权利要求2所述的高强度高阻尼的Ti-Ni-Nb-Mo形状记忆合金的应用,其特征在于,该记忆合金用于设计智能阻尼元件或智能振动隔离器。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属研究所,未经中国科学院金属研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810013569.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top