[发明专利]一种采用侧壁角监控曝光装置的方法有效
申请号: | 200810035093.6 | 申请日: | 2008-03-25 |
公开(公告)号: | CN101546129A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
发明(设计)人: | 杨晓松 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈 蘅;李时云 |
地址: | 2012*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 采用 侧壁 监控 曝光 装置 方法 | ||
1.一种采用侧壁角监控曝光装置的方法,所述侧壁角为曝光装置曝出的晶圆上图案的侧壁角,该方法用于监控曝光装置的聚焦偏移值,其特征在于,它包括以下步骤:
步骤1:采用光学特征尺寸方法测量待监控曝光装置在不同的聚焦偏移值下,曝得的晶圆上图案侧壁角的大小,所述曝光装置不同聚焦偏移值下对应的图案侧壁角为不同晶圆上的图案侧壁角;
步骤2:根据步骤1得出的曝光装置不同聚焦偏移值下对应的图案侧壁角,得出图案侧壁角与聚焦偏移值的关系式,所述关系式为y=-22.455x+89.68,其中y表示侧壁角,x表示聚焦偏移值;
步骤3:测量待监控的曝光装置曝得的晶圆上图案的侧壁角,根据步骤2得出的侧壁角与聚焦偏移值的关系式计算曝光装置的聚焦偏移值,所述待监控的曝光装置曝得的晶圆上图案为曝光制程待曝光的关键尺寸值最小的图案;
步骤4:根据步骤3计算出的曝光装置的聚焦偏移值判断曝光装置聚焦偏移值是否在聚焦偏移值的阈值范围内,如果不是,则需要进行曝光装置的校准。
2.如权利要求1所述的采用侧壁角监控曝光装置的方法,其特征在于,所述步骤2中得出的侧壁角与聚焦偏移值的关系式为线性关系式。
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