[发明专利]氮化物半导体发光元件有效

专利信息
申请号: 200810092602.9 申请日: 2008-04-16
公开(公告)号: CN101290963A 公开(公告)日: 2008-10-22
发明(设计)人: 大野彰仁;藏本恭介 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 闫小龙;刘宗杰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 氮化物 半导体 发光 元件
【权利要求书】:

1.一种氮化物半导体发光元件,其特征在于,

具有:p型接触层;p型中间层,形成在所述p型接触层的下层;p型覆盖层,形成在所述p型中间层的下层,

所述p型接触层与所述p型中间层间、以及所述p型中间层与所述p型覆盖层间的带隙差分别为200meV以下。

2.如权利要求1的氮化物半导体发光元件,其特征在于,

所述p型接触层是掺杂有Mg的InyAlzGa1-y-zN,其中,0≤y,0≤z,y+z<1,

所述p型中间层是掺杂有Mg的Alx1Ga1-X1N,其中,0≤x1≤1,

所述p型覆盖层是掺杂有Mg的Alx2Ga1-X2N,其中,0≤x2≤1。

3.如权利要求2的氮化物半导体发光元件,其特征在于,

所述p型接触层为GaN,

所述p型接触层的Mg浓度是1×1020cm-3~1×1021cm-3

4.如权利要求2的氮化物半导体发光元件,其特征在于,

所述p型中间层的Mg浓度是1×1018cm-3~1×1019cm-3

5.如权利要求2的氮化物半导体发光元件,其特征在于,

所述p型中间层的Mg浓度比所述p型接触层以及所述p型覆盖层的Mg浓度低。

6.如权利要求2的氮化物半导体发光元件,其特征在于,

所述p型中间层的成分是GaN。

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