[发明专利]氮化物半导体发光元件有效
申请号: | 200810092602.9 | 申请日: | 2008-04-16 |
公开(公告)号: | CN101290963A | 公开(公告)日: | 2008-10-22 |
发明(设计)人: | 大野彰仁;藏本恭介 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 闫小龙;刘宗杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氮化物 半导体 发光 元件 | ||
1.一种氮化物半导体发光元件,其特征在于,
具有:p型接触层;p型中间层,形成在所述p型接触层的下层;p型覆盖层,形成在所述p型中间层的下层,
所述p型接触层与所述p型中间层间、以及所述p型中间层与所述p型覆盖层间的带隙差分别为200meV以下。
2.如权利要求1的氮化物半导体发光元件,其特征在于,
所述p型接触层是掺杂有Mg的InyAlzGa1-y-zN,其中,0≤y,0≤z,y+z<1,
所述p型中间层是掺杂有Mg的Alx1Ga1-X1N,其中,0≤x1≤1,
所述p型覆盖层是掺杂有Mg的Alx2Ga1-X2N,其中,0≤x2≤1。
3.如权利要求2的氮化物半导体发光元件,其特征在于,
所述p型接触层为GaN,
所述p型接触层的Mg浓度是1×1020cm-3~1×1021cm-3。
4.如权利要求2的氮化物半导体发光元件,其特征在于,
所述p型中间层的Mg浓度是1×1018cm-3~1×1019cm-3。
5.如权利要求2的氮化物半导体发光元件,其特征在于,
所述p型中间层的Mg浓度比所述p型接触层以及所述p型覆盖层的Mg浓度低。
6.如权利要求2的氮化物半导体发光元件,其特征在于,
所述p型中间层的成分是GaN。
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