[发明专利]容器消毒装置、系统和方法

权利要求书

1.一种容器(10)消毒装置(1)，包括具有供电荷载体通过的出射窗(8)的处 理头(5)、产生电荷载体的电荷载体产生源以及在出射窗(8)的方向上加速电荷 载体的加速设备(6)，其特征在于，所述处理头(5)的横截面具有使处理头(5)能 穿过容器(10)的容器口的尺寸，加速设备(6)以从出射窗(8)射出的电荷载体能射 到容器(10)的内壁上的方式加速电荷载体；并且所述装置(1)包括内壳(20)，其 中设置有所述加速设备(6)，且一外壳(16)将所述内壳(20)包围；在所述外壳(16) 和内壳(20)之间形成有延伸到处理头(5)的腔室(22)，气体或液体介质通过所述 腔室(22)导入。

2.根据权利要求1所述的装置(1)，其特征在于，所述出射窗(8)和加速设 备(6)设置在外壳(16)中，该外壳(16)具有使该外壳(16)能穿过容器(10)的容器口 的尺寸。

3.根据权利要求2所述的装置(1)，其特征在于，所述装置(1)由屏蔽设备 (18)包围。

4.根据权利要求1所述的装置(1)，其特征在于，所述腔室(22)包括一个 或多个供气体或液体介质通过的通道(22a、22b)。

5.根据权利要求4所述的装置(1)，其特征在于，所述气体介质从一组气 体介质中选出，包括氦气、氮气、氩气、二氧化碳及其混合物。

6.根据权利要求4所述的装置(1)，其特征在于，所述液体介质从一组液 体介质中选出，包括水、油、液氮。

7.根据权利要求1所述的装置(1)，其特征在于，所述出射窗(8)由从一组 物质中选出的物质做成，包括钛、石英玻璃、钻石及其化合物。

8.根据权利要求7所述的装置(1)，其特征在于，所述出射窗(8)具有3μm 到30μm之间的厚度。

9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置(1)包括用于使电 荷载体偏转的偏转设备(7)。

10.根据权利要求1所述的装置(1)，其特征在于，所述处理头(5)相对容 器(10)在容器(10)的轴向(L)上移动。

11.根据权利要求1所述的装置(1)，其特征在于，所述处理头(5)相对容 器(10)旋转。

12.根据权利要求1所述的装置(1)，其特征在于，所述处理头(5)在容器 (10)的径向上移动。

13.一种利用根据前述权利要求中任意一项所述的装置(1)处理容器的系 统(30)。

14.根据权利要求13所述的系统(30)，其特征在于，所述系统(30)包括用 于填充容器(10)的设备(32)，且所述装置(1)设置在该填充容器的设备(32)的上 游。

15.根据权利要求13所述的系统(30)，其特征在于，所述系统包括在容 器(10)的轴向上相对所述装置(1)转移容器的转移设备(36)。

16.根据权利要求13-15中任意一项所述的系统(30)，其特征在于，所述 装置(1)设置在容器膨胀设备(38)和填充容器的设备(32)之间。

17.根据权利要求13所述的系统(30)，其特征在于，所述系统(30)包括多 个依照权利要求1至13中任意一项所述的容器消毒装置(1)，其中这些装置(1) 沿圆形轨道设置。

18.根据权利要求13所述的系统，其特征在于，所述系统包括用于对容 器(10)的外壁进行消毒的进一步消毒装置(1b)。

19.根据权利要求18所述的系统，其特征在于，所述进一步消毒装置(1b) 设置在所述装置(1)的上游。

20.根据权利要求18或19所述的系统，其特征在于，所述进一步消毒装 置(1b)固定设置。