[发明专利]制造光学元件的方法和光学元件有效
申请号: | 200810098680.X | 申请日: | 2008-06-06 |
公开(公告)号: | CN101324676A | 公开(公告)日: | 2008-12-17 |
发明(设计)人: | 田中博幸;山田雅之;小谷佳范 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王健 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 光学 元件 方法 | ||
1.一种制造光学元件的方法,该方法包括:
通过使用含有至少含铝的金属醇盐和稳定剂的涂覆液在光学基 材上形成膜;
在室温至300℃的温度下将该膜干燥;
将干燥后的膜浸入不小于5℃并且不超过50℃的醇和水的混合液 体或只是水的液体中以由此将该稳定剂从该膜中除去;
在不小于60℃并且不超过300℃的温度下将已经除去了稳定剂的 膜烘烤;和
将已经烘烤过的膜用不小于60℃并且不超过100℃的温水进行处 理以形成具有凹凸结构的含铝膜。
2.根据权利要求1的制造光学元件的方法,其中用温水处理包 括将膜浸入温水中。
3.根据权利要求1的制造光学元件的方法,其中用温水处理包 括将膜暴露于水蒸汽下。
4.根据权利要求1的制造光学元件的方法,其中该凹凸结构包 括含有氧化铝作为主要成分的片晶。
5.根据权利要求1的制造光学元件的方法,其中该光学基材包 括有机聚合物。
6.根据权利要求1的制造光学元件的方法,其中含铝膜是氧化 铝膜。
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