[发明专利]制造光学元件的方法和光学元件有效

专利信息
申请号: 200810098680.X 申请日: 2008-06-06
公开(公告)号: CN101324676A 公开(公告)日: 2008-12-17
发明(设计)人: 田中博幸;山田雅之;小谷佳范 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王健
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 制造 光学 元件 方法
【权利要求书】:

1.一种制造光学元件的方法,该方法包括:

通过使用含有至少含铝的金属醇盐和稳定剂的涂覆液在光学基 材上形成膜;

在室温至300℃的温度下将该膜干燥;

将干燥后的膜浸入不小于5℃并且不超过50℃的醇和水的混合液 体或只是水的液体中以由此将该稳定剂从该膜中除去;

在不小于60℃并且不超过300℃的温度下将已经除去了稳定剂的 膜烘烤;和

将已经烘烤过的膜用不小于60℃并且不超过100℃的温水进行处 理以形成具有凹凸结构的含铝膜。

2.根据权利要求1的制造光学元件的方法,其中用温水处理包 括将膜浸入温水中。

3.根据权利要求1的制造光学元件的方法,其中用温水处理包 括将膜暴露于水蒸汽下。

4.根据权利要求1的制造光学元件的方法,其中该凹凸结构包 括含有氧化铝作为主要成分的片晶。

5.根据权利要求1的制造光学元件的方法,其中该光学基材包 括有机聚合物。

6.根据权利要求1的制造光学元件的方法,其中含铝膜是氧化 铝膜。

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