[发明专利]光刻投射装置

权利要求书

1.一种光刻投射装置，包括：

用于提供辐射投射光束的辐射系统；

用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；

用于保持基底的基底台；

用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；

用于至少部分地将所述投射系统末端元件和所述基底之间的间隙填充液体的液体供给系统，

其特征在于所述液体供给系统还包括在所述液体供给系统中液体的顶面上，用于抑制波动产生的抑制装置，并且所述抑制装置包括压力释放装置。

2.根据权利要求1的装置，其中所述抑制装置包括弹性薄膜。

3.根据权利要求1或2的装置，其中所述抑制装置包括网状物，以使所述液体的所述顶面的最大面积与网状物的开口相等。

4.根据权利要求1或2的装置，其中所述抑制装置包括允许其中的某个压力之上的液体通过的安全阀。

5.根据权利要求1的装置，其中所述抑制装置是不能与所述液体融和的高粘度液体。