[发明专利]曝光装置和器件制造方法无效
申请号: | 200810173391.1 | 申请日: | 2004-12-28 |
公开(公告)号: | CN101408734A | 公开(公告)日: | 2009-04-15 |
发明(设计)人: | 時田俊伸 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 许海兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 器件 制造 方法 | ||
1.一种曝光装置,经由液体而把衬底曝光,其特征在于包括:
用来自光源的光照明标线片的照明光学系统;
把所述标线片的图案投影到所述衬底的投影光学系统;
保持所述衬底的保持构件;以及
向所述保持构件所具有的流路提供调整了温度的流体的温度调整装置,
其中,该曝光装置经由在仅所述衬底表面的局部和所述投影光学系统的最终透镜之间充满的液体而把所述衬底曝光。
2.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于:
所述流路具有多个分割了的流路。
3.根据权利要求2所述的曝光装置,其特征在于:
所述温度调整装置独立调整流过所述多个分割了的流路各个的所述流体的温度。
4.根据权利要求2所述的曝光装置,其特征在于:
所述温度调整装置根据曝光位置信息,针对所述多个分割了的流路的每一个调整流过该流路的所述流体的温度。
5.一种器件制造方法,包括以下的步骤:
使用权利要求1所述的曝光装置把衬底曝光的步骤;
把该曝光的衬底显影的步骤。
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