[发明专利]焊接触点及其形成方法无效

专利信息
申请号: 200810187362.0 申请日: 2008-12-29
公开(公告)号: CN101521170A 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 艾尔弗雷德·马丁;芭芭拉·哈斯勒;马丁·弗拉诺施;克劳斯-京特·奥珀曼 申请(专利权)人: 奇梦达股份公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L23/482
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;李 慧
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 焊接 触点 及其 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种形成到衬底的焊接触点的方法,所述方法包括:

在所述衬底的表面上提供第一范围,其中,所述第一范 围通过焊接材料阻止潮湿;

在所述衬底的所述表面上提供第二范围,其中,所述第 二范围可通过所述焊接材料变潮湿;

在所述表面上提供结构层,其中,所述结构层包括到所 述衬底的开口,以及其中,所述开口至少部分地露出所述第一 范围和所述第二范围;

通过所述焊接材料填充所述开口,从而所述焊接材料与 所述第一范围和所述第二范围接触;以及

使所述焊接材料液化,从而所述焊接材料从所述第一范 围中排出,并且使所述焊接材料的一部分从所述开口突出,其 中,所述焊接材料的该部分形成所述焊接触点。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,提供所述第二范围包括在 所述衬底的所述表面上提供金属化焊盘。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,通过所述焊接材料填充所 述开口包括:

在所述开口中提供第一压力;

为所述开口的孔提供液化的焊接材料;以及

为所述液化的焊接材料提供第二压力,其中,所述第二 压力大于所述第一压力,从而通过所述焊接材料来填充所述开 口。

4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述开口填充有液态焊接 材料、液化焊接材料、粒状焊接材料、粉状焊接材料和糊状焊 接材料的组中的任意焊接材料。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,提供所述结构层包括:

提供光刻胶层;

将所述光刻胶层暴露于掩蔽辐射;以及

去除所述开口区域中所述光刻胶层的一部分,以形成所 述结构层。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,从所述开口突出的所述焊 接材料的部分被固化,以形成焊球。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,从所述开口突出的所述焊 接材料的部分被焊接到电路板、印刷电路板、母板、模块板和 芯片载体的组中任意一个的接触焊盘,从而形成从所述衬底到 所述接触焊盘的焊接触点。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,所述方法还包括在通过所 述焊接材料填充所述开口之后,去除所述焊接材料上的氧化 物。

9.一种制造集成电路的方法,所述方法包括:

提供衬底,其中,所述衬底包括功能电路;

在所述衬底的表面上提供金属化焊盘,其中,所述金属 化焊盘连接至所述功能电路;

在所述表面上提供结构层,其中,所述结构层包括开口, 其中,所述开口至少部分地露出所述金属化焊盘和所述衬底的 表面;

通过焊接材料来填充所述开口,从而使所述焊接材料与 第一范围和第二范围接触;以及

液化所述焊接材料,从而使所述焊接材料在所述开口中 从所述衬底的所述表面拉出,并且使所述焊接材料的一部分从 所述开口突出,所述焊接材料的该部分形成焊球。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,通过所述焊接材料填充所 述开口还包括:

提供液体焊接材料池;

在所述结构层的所述开口和所述池的顶部提供第一压 力;

将具有所述衬底的所述结构层浸入所述池中,从而用所 述池覆盖所述开口的孔;

为所述池提供第二压力,其中,所述第二压力大于所述 第一压力,从而通过所述焊接材料来填充所述开口;以及

从所述池中取出具有所述结构层的所述衬底。

11.根据权利要求10所述的方法,其中,在从所述池中取出之后, 所述衬底和所述结构层被冷却,从而固化所述开口中的焊接材 料。

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