[发明专利]无光罩式曝光系统无效
申请号: | 200810190846.0 | 申请日: | 2008-12-31 |
公开(公告)号: | CN101770177A | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 林长庆;叶光明 | 申请(专利权)人: | 财团法人金属工业研究发展中心 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 王允方 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 无光 曝光 系统 | ||
1.一种无光罩式曝光系统,其包括:
发光源,其用以发出光束;
第一准直器,其用以使所述光束形成准直光束;
第一反射镜,其用以改变来自所述第一准直器的光束的行进方向;
第二反射镜,其用以改变来自所述第一反射镜的光束的行进方向;
图案产生器,其可切换出多种图案,将来自所述第二反射镜的光束反射出对应的图案以形成图案化光束;
投射透镜,其可调整焦距,放大或缩小来自所述图案产生器的图案化光束;
第一杂散光过滤器,其用以滤除所述图案化光束内的杂散光;
衬底,其表面上具有光阻层,通过所述第一杂散光过滤器的图案化光束投射于所述光阻层上;
平台,其承载所述衬底;以及
控制装置,其电性连接到所述图案产生器,用以控制所述图案产生器所产生的图案。
2.根据权利要求1所述的无光罩式曝光系统,其中所述光束是紫外线光束或激光光束。
3.根据权利要求1所述的无光罩式曝光系统,其中所述图案产生器是数字微镜装置或硅基液晶。
4.根据权利要求1所述的无光罩式曝光系统,其中所述第一杂散光过滤器是中空圆筒状,且其内壁表面上具有设定的沟槽。
5.根据权利要求4所述的无光罩式曝光系统,其中所述第一杂散光过滤器的沟槽的剖视是三角形、锯齿形、梯形、方形或圆弧形。
6.根据权利要求1所述的无光罩式曝光系统,其中所述衬底是软性衬底。
7.根据权利要求1所述的无光罩式曝光系统,其中所述控制装置进一步电性连接到所述平台,用以控制所述平台的移动。
8.根据权利要求1所述的无光罩式曝光系统,其中所述控制装置是计算机。
9.根据权利要求1所述的无光罩式曝光系统,其进一步包括第二准直器,其位于所述第二反射镜与所述图案产生器之间,用以使来自所述第二反射镜的光束形成准直光束。
10.根据权利要求1所述的无光罩式曝光系统,其进一步包括第二杂散光过滤器,其位于所述第二反射镜与所述图案产生器之间,用以滤除来自所述第二反射镜的光束的杂散光。
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