[发明专利]无光罩式曝光系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种无光罩式曝光系统，明确地说涉及一种延长光路径的无光罩式曝光系统。

背景技术

参考图1，显示第US6,998,219号美国专利所揭示的常规无光罩式曝光系统的示意图。所述无光罩式曝光系统1包括发光源10、过滤器(Filter)11、第一透镜系统12、微镜阵列(Micromirror Array)14、计算机系统16、第二透镜系统18、衬底20和平台22。

所述发光源10用以发出光束26。所述过滤器11用以过滤所述光束26。所述光束26通过所述第一透镜系统12后投射到所述微镜阵列14。所述计算机系统16通过信号线15连接到所述微镜阵列14，以控制所述微镜阵列14的每一个微镜片对应到一设定的图案。借此，所述微镜阵列14将所述光束26反射成图案化光束27。所述图案化光束27通过所述第二透镜系统18后投射到位于所述平台22的所述衬底20表面上的光阻层21，使所述光阻层21曝光出与所述图案化光束27相对应的图案。

所述无光罩式曝光系统1的缺点是，所述发光源10所发出的光束26直接投射到所述微镜阵列14，之后再反射到所述衬底20。因此，在位置配置上，所述发光源10的位置会距所述衬底20较近，因而所述发光源10所发出的部分光线会因为散射作用而直接影响所述衬底20上的所述光阻层21，导致所述光阻层21所曝出的图案的图形不均匀，造成产品不良率提高。

因此，有必要提供一种创新且具进步性的无光罩式曝光系统，以解决上述问题。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种无光罩式曝光系统，其包括发光源、第一准直器(Collimator)、第一反射镜、第二反射镜、图案产生器、投射透镜(Projection Lens)、第一杂散光过滤器(Filter)、衬底、平台和控制装置。所述发光源用以发出光束。所述第一准直器用以使所述光束形成准直光束。所述第一反射镜用以改变来自所述第一准直器的光束的行进方向。所述第二反射镜用以改变来自所述第一反射镜的光束的行进方向。所述图案产生器可切换出多种图案，而将来自所述第二反射镜的光束反射出对应的图案，而形成图案化光束。所述投射透镜可调整焦距，而放大或缩小来自所述图案产生器的图案化光束。所述第一杂散光过滤器用以滤除所述图案化光束内的杂散光。所述衬底的表面上具有光阻层，通过所述第一杂散光过滤器的图案化光束投射于所述光阻层上。所述平台承载所述衬底。所述控制装置电性连接到所述图案产生器，用以控制所述图案产生器所产生的图案。

借此，由于增加所述第一反射镜和所述第二反射镜，使得所述光束的光路径得以延长，因此，所述发光源的位置可以设置于远离所述衬底，因而所述发光源所发出的光线不会因为散射作用而直接影响所述衬底上的所述光阻层。因此，所述光阻层所曝出的图案的图形会较均匀，可以降低产品不良率。

附图说明

图1显示第US6,998,219号美国专利所揭示的常规无光罩式曝光系统的示意图；

图2显示本发明的无光罩式曝光系统的优选实施例的示意图；

图3显示本发明中第一杂散光过滤器的示意图；

图4a显示本发明中第一杂散光过滤器的沟槽的局部剖视示意图，其中所述第一杂散光过滤器的沟槽的剖视是三角形；

图4b显示本发明中第一杂散光过滤器的沟槽的局部剖视示意图，其中所述第一杂散光过滤器的沟槽的剖视是锯齿形；

图4c显示本发明中第一杂散光过滤器的沟槽的局部剖视示意图，其中所述第一杂散光过滤器的沟槽的剖视是梯形；

图4d显示本发明中第一杂散光过滤器的沟槽的局部剖视示意图，其中所述第一杂散光过滤器的沟槽的剖视是方形；以及

图4e显示本发明中第一杂散光过滤器的沟槽的局部剖视示意图，其中所述第一杂散光过滤器的沟槽的剖视是圆弧形。

具体实施方式

参考图2，显示本发明的无光罩式曝光系统的优选实施例的示意图。所述无光罩式曝光系统2包括发光源30、第一准直器(Collimator)31、第一反射镜32、第二反射镜33、第二准直器34、图案产生器35、投射透镜(Projection Lens)36、第一杂散光过滤器(Filter)37、衬底38、平台39和控制装置40。

所述发光源30用以发出光束41。在本实施例中，所述光束41是单一波长的光束，例如紫外线光束或激光光束。所述第一准直器31用以使所述光束41形成准直光束。所述第一反射镜32用以改变来自所述第一准直器31的光束41的行进方向。所述第二反射镜33用以改变来自所述第一反射镜32的光束41的行进方向。