[实用新型]多重气流金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体有效
申请号: | 200820153029.3 | 申请日: | 2008-09-12 |
公开(公告)号: | CN201284372Y | 公开(公告)日: | 2009-08-05 |
发明(设计)人: | 甘志银 | 申请(专利权)人: | 甘志银 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;H01L21/00;H01L21/205 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 | 代理人: | 李 平 |
地址: | 430074湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多重 气流 金属 有机物 化学 沉积 设备 反应 | ||
1.一种多重气流金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体,主要包括:反应气体A进气管道(1)、反应气体B进气管道(2)、反应气体C进气管道(3)、反应气体D进气管道(4)、喷淋口(8)、喷淋冷却腔(6)、喷淋冷却液进口(16)、喷淋冷却液出口(15)、载片盘(10)、衬底(11)、反应腔(14)、反应腔冷却腔(21)、反应腔冷却液进口(18)、反应腔冷却液出口(19)、整流罩(20)、排气口(13)、缓冲腔(7)、腔体外壳(17)、缓冲挡板(5)、支承轴(9)、加热器(12),其特征在于所述反应气体A进气管道(1)从反应腔(14)顶端接入,反应腔(14)的下方设有载片盘(10),载片盘(10)的上部设有喷淋口(8)与喷淋冷却腔(6),反应气体B进气管道(2),反应气体C进气管道(3)及反应气体D的进气管道(4)同轴包裹在反应气体A进气管道(1)的外壁上,反应气体B进气管道(2)出口位于反应气体A出口上方,反应气体C进气管道(3)出口位于反应气体B出口上方,反应气体D的出口位于缓冲腔(7)顶部,其中心轴线的周边,喷淋冷却液进口(16)与喷淋冷却液出口(15)安装于反应腔(14)与缓冲腔(7)之间,加热器(12)与反应腔(14)由整流罩(20)隔开,腔体外壳(17)内设有一层反应腔冷却腔(21),载片盘(10)下部设有加热器(12),排气口(13)位于反应腔(14)的底部。
2.根据权利要求1所述的多重气流金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体,其特征在于所述缓冲腔(7)的中间设有缓冲挡板(5)。
3.根据权利要求1所述的多重气流金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体,其特征在于所述喷林口(8)垂直于载片盘(10),喷林口(8)的形状为孔或缝隙,其分布方式为圆周分布或阵列分布或散布,喷林口(8)与反应腔(14)的顶部平行或突出于反应腔(14)的顶部。
4.根据权利要求1所述的多重气流金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体,其特征在于所述可调节与喷淋口之间距离的载片盘(10)的上表面设有衬底(11),载片盘(10)根据支撑轴(9)设置为固定型式或旋转型式。
5.根据权利要求1所述的多重气流金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体,其特征在于所述加热器(12)为电阻加热或射频感应加热。
6.根据权利要求1所述的多重气体金属有机化合物化学气相沉积设备的反应腔体,其特征在于所述反应气体A进气管道(1)、反应气体B进气管道(2)、反应气体C进气管道(3)的出口部分管道为水平状,出口为鸟嘴形状。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的