[发明专利]蒸镀材料及利用该材料制得的光学薄膜有效
| 申请号： | 200880007708.2 | 申请日： | 2008-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN101636518A | 公开（公告）日： | 2010-01-27 |
| 发明（设计）人： | 高桥修平;小坂金雄;冈田均 | 申请（专利权）人： | 富士钛工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;G02B1/11 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李 帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 材料 利用 光学薄膜 | ||
【权利要求书】：
1.蒸镀材料，其特征在于，包含铌及镧的二元系氧化物，该铌和镧的摩尔比为25∶75～90∶10。
2.蒸镀材料，其包含a)铌及镧的二元系氧化物和b)金属铌及/或金属镧，其特征在于，该蒸镀材料中的铌和镧的摩尔比为25∶75～90∶10。
3.权利要求1或2所述的蒸镀材料，其中，铌和镧的摩尔比为35∶65～60∶40。
4.权利要求1或2所述的蒸镀材料，其中，所述蒸镀材料为烧结体或者熔融体。
5.权利要求3所述的蒸镀材料，其中，所述蒸镀材料为烧结体或者熔融体。
6.权利要求1或2所述的蒸镀材料，其中，氧化镧的含有率为5重量％以下。
7.权利要求3所述的蒸镀材料，其中，氧化镧的含有率为5重量％以下。
8.权利要求4所述的蒸镀材料，其中，氧化镧的含有率为5重量％以下。
9.权利要求5所述的蒸镀材料，其中，氧化镧的含有率为5重量％以下。
10.光学薄膜的制造方法，其特征在于，使用权利要求1～9任一项所述的蒸镀材料，通过真空蒸镀法形成。
11.权利要求10所述的光学薄膜的制造方法，其中，真空蒸镀法为电子束蒸镀法。
12.权利要求11所述的光学薄膜的制造方法，其中，在成膜中固定电子束的照射位置。
13.光学薄膜，其通过权利要求10～12任一项所述的制造方法得到。
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