[发明专利]一种玻璃制品以及制造玻璃制品的方法

权利要求书

1.一种玻璃制品(1)，其包括：玻璃基材(2)、沉积在所述玻璃基材上的反射金属层(3)、以及沉积在所述反射金属层上的钝化层(4)，其特征在于，利用原子层沉积(ALD)工艺沉积所述钝化层(4)。

2.根据权利要求1所述的玻璃制品(1)，其特征在于，所述钝化层(4)被直接在沉积在所述反射金属层上。

3.根据权利要求1或2所述的玻璃制品(1)，其特征在于，所述反射金属层(3)包含银。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的玻璃制品(1)，其特征在于，

所述钝化层(4)包含金属氧化物。

5.根据权利要求4所述的玻璃制品(1)，其特征在于，

所述钝化层(4)包含下述物质中至少一种的氧化物：铝、钛、锆、铌、锌、硅、钽、铪。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的玻璃制品(1)，其特征在于，

所述钝化层(4)包含硫化锌ZnS。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的玻璃制品(1)，其特征在于，

涂覆所述反射金属层(3)的钝化材料的总厚度为小于大约200nm，更优选小于大约100nm，最优选小于大约50nm。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的玻璃制品(1)，其特征在于，

所述玻璃制品(1)是用于低辐射系数窗户的平板玻璃制品。

9.根据权利要求1-7中任一项所述的玻璃制品(1)，其特征在于，

所述玻璃制品(1)是镜子。

10.根据权利要求1-7中任一项所述的玻璃制品(1)，其特征在于，

所述玻璃制品(1)是用于光学系统的光学部件，例如透镜。

11.一种制造玻璃制品(1)的方法，该方法包括：在玻璃基材(2)上沉积反射金属层(3)，和在所述反射金属层上沉积钝化层(4)，其特征在于，

利用原子层沉积(ALD)工艺沉积所述钝化层(4)。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，

所述钝化层(4)被直接沉积在所述反射金属层(3)上。

13.根据权利要求11或12所述的方法，其特征在于，

所述钝化层(4)沉积包括沉积金属氧化物；以及

在30℃至400℃、更优选在80℃至300℃、最优选在100℃至150℃范围内的温度下沉积所述金属氧化物。

14.根据权利要求11或13中任一项所述的方法，其特征在于，

所述钝化层(4)沉积包括沉积金属氧化物；以及

在原子层沉积(ALD)工艺中，水H₂O被用作所述金属氧化物的氧源。

15.根据权利要求11或12所述的方法，其特征在于，

所述钝化层(4)沉积包括沉积硫化锌ZnS。