[发明专利]氨基酸插花生长素无效
申请号: | 200910198039.8 | 申请日: | 2009-10-30 |
公开(公告)号: | CN102050666A | 公开(公告)日: | 2011-05-11 |
发明(设计)人: | 许冬梅 | 申请(专利权)人: | 上海德通能源环保科技有限公司 |
主分类号: | C05G3/00 | 分类号: | C05G3/00;A01N37/44;A01P21/00 |
代理公司: | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 | 代理人: | 吴泽群 |
地址: | 200023 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氨基酸 插花 生长素 | ||
技术领域
本发明属于瓶装插花用品,具体地说是一种氨基酸插花生长素。
背景技术
随着社会的发展和进步,越来越多的人们生活追求美的享受。人们使用插花装饰住宅、办公室。氨基酸插花生长素可以散发清香,改变空气质量,改善环境;插花可以使人们心情愉快,使人们提高工作效率。现有技术由于插花长期置于室内环境下,阳光不足,空气流通不畅,容易造成生长不旺;同时由于花瓶里的水营养不足,造成插花寿命短。由于插花价格较贵,插花寿命短给人们带来了资金的浪费。所以发明一种能够使促进插花生长、预防病害、延长插花寿命的氨基酸插花生长素,是十分必要的。
发明内容
本发明的目的是提供一种促进插花生长、预防病害、延长插花寿命的氨基酸插花生长素。
本发明的目的是这样实现的;
氨基酸插花生长素,由下列重量比的物质组成:
氨基酸 14-15份 硫酸铜 0.4-0.5份 硫酸镁 0.2-0.5份
硫酸锰 0.2-0.5份 硫酸亚铁 0.2-0.5份 钼酸铵 0.2-0.5份
硼酸 0.2-0.5份 尿素 5-10份 水 100份。
氨基酸为90%粉剂、硫酸铜、硫酸镁、硫酸锰、硫酸亚铁、钼酸铵、硼酸为分析纯化学试剂。
氨基酸插花生长素,制备步骤如下:
(1)将尿素粉碎为200目粉状,溶于水中、搅拌均匀;
(2)将硫酸铜、硫酸亚铁粉碎为200目粉状;
(3)将硫酸铜、硫酸亚铁、硫酸镁、硫酸锰、钼酸铵、硼酸加入尿素溶液中,加热至65℃,搅拌至完全溶解;
(4)将上述溶液冷却至常温,分装入瓶。
本发明的要点是:以水为载体,将促进插花生长的氨基酸、微量元素和氮素肥料组合在一起,制成插花生长素。
本发明使用的氨基酸为植物蛋白水解制成;尿素为46%含量的氮素肥料。
为了使所有原料完全溶解于水,本发明将所有原料粉碎至200目粉状。同时制备工艺采取加温和搅拌的方法使其完全溶解。
尿素是植物生长的重要肥料;氨基酸是蛋白质的组成基础,是植物生长的促进剂;微量元素提供花卉营养。这些原料组合起来,具有提供植物营养、促进植物生长、增强植物抗性、延长植物寿命的功能。
本发明由于原料多、功能多、功能齐全,所以氨基酸插花生长素具有良好的促进插花生长效果。是一种十分理想的插花生长素。
本发明将多种肥料组合,具有新颖性和创造性、实用性。
本发明的优点是:
1、增加插花营养,促进插花生长。
2、预防插花病害;延长插花开放。
3、生产容易、使用方便、成本低。
4、保管运输方便。
具体实施方式
下面通过具体实施方式对本发明做进一步说明。
实施例1:
取下列重量的物质,配制氨基酸插花生长素:
90%粉剂氨基酸150克,含氮量46%尿素60克,分析纯化学试剂5水硫酸铜5克,硫酸镁4克,硫酸锰4克,硫酸亚铁2克,钼酸铵2克,硼酸5克,自来水1公斤。硫酸镁、硫酸锰、硫酸亚铁、钼酸铵、硼酸为分析纯化学试剂。
氨基酸插花生长素制备步骤如下:将尿素粉碎为200目粉状,溶于水中、搅拌均匀;将硫酸铜、硫酸亚铁粉碎为200目粉状;将硫酸铜、硫酸亚铁、硫酸镁、硫酸锰、钼酸铵、硼酸加入尿素溶液中,加热至65℃,搅拌至完全溶解;将上述溶液冷却至常温,分装入瓶,每瓶100毫升。
本发明的使用,取制成的氨基酸插花生长素兑水100倍喷在花卉上即可。
实施例2:
取下列重量的物质,配制氨基酸插花生长素:
90%粉剂氨基酸300克,含氮量46%尿素120克,分析纯化学试剂5水硫酸铜10克,硫酸镁10克,硫酸锰10克,硫酸亚铁5克,钼酸铵5克,硼酸10克,自来水2公斤。硫酸镁、硫酸锰、硫酸亚铁、钼酸铵、硼酸为分析纯化学试剂。
氨基酸插花生长素制备步骤如下:将尿素粉碎为200目粉状,溶于水中、搅拌均匀;将硫酸铜、硫酸亚铁粉碎为200目粉状;将硫酸铜、硫酸亚铁、硫酸镁、硫酸锰、钼酸铵、硼酸加入尿素溶液中,加热至65℃,搅拌至完全溶解;将上述溶液冷却至常温,分装入瓶,每瓶100毫升。
本发明的使用,取制成的氨基酸插花生长素兑水100倍喷在花卉上即可。
以上所述仅为本发明的优选实施例,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、改进等,均应包括在本发明的保护范围之内。
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