[发明专利]化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种化学气相沉积设备，其包括反应器、与反应器连接的进气装置及抽气装置，所述反应器内设置有承载装置，其特征在于：所述进气装置包括多个分布在反应器内的气体喷嘴。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述承载装置包括底座及相对底座可转动的承载件，所述承载件为筒状，所述进气装置设于所述底座，所述多个气体喷嘴收容于所述承载件。

3.如权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述底座设有环形滑槽，所述承载件设有滚轮，所述滚轮沿所述滑槽可滑动使所述承载件相对所述底座转动。

4.如权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述承载装置包括抽气管，所述化学气相沉积设备还包括对所述抽气管抽气的抽气泵，所述承载件具有多个侧壁，所述侧壁开设有与所述抽气管相通的吸附槽。

5.如权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述进气装置包括进气管及设置于所述底座的支撑件，所述多个气体喷嘴设于所述支撑件且与所述进气管相连，所述多个气体喷嘴自所述支撑件邻近所述底座一端向远离所述底座一端依次均匀排布。

6.如权利要求5所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述化学气相沉积设备还包括设于所述反应器外侧的第一光源，所述反应器开设有与所述第一光源相通的通光孔。

7.如权利要求6所述的化学气相沉积设备，其特征在于：进气装置还包括第二光源，所述支撑件形成有容置孔及多个光源导出件，所述第二光源收容于所述容置孔且光线可通过多个光源导出件导出。

8.如权利要求7所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述进气装置还包括设于所述支撑件的遮蔽组件，所述遮蔽组件用于对所述多个气体喷嘴及多个光源导出件进行遮蔽。

9.如权利要求8所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述遮蔽组件包括滑杆、沿所述滑杆可滑动的滑动件及固定于所述滑动件的与所述气体喷嘴或光源导出件配合的遮蔽件。

10.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于：所述进气装置还设有加热组件，所述加热组件用于对所述进气装置输入的气体进行加热。