[实用新型]蚀刻设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种蚀刻设备，特别涉及一种蚀刻设备的蚀刻室改良，以解决玻璃基板的两端因进行蚀刻与接受冲洗的时间不同，所产生蚀刻均匀性不佳的情形。

背景技术

参考图2，为现有技术中的一种蚀刻设备，该蚀刻设备包含有一送料区A、一蚀刻室B、一初步洗净室C、一主洗净室D、一干燥室E、一出料区F，工作室之间设有一连续的送料导轮G，该送料导轮G是由一外部电控室(图未示)控制。其中该蚀刻室包含一浸泡槽B1，该浸泡槽B1还外接一药液工作槽H，该药液工作槽H基本上包含一浸泡泵H1做为动力源供给药液至浸泡槽B1，以及电阻侦测计H3、酸碱度侦测计H2、温度侦测器H4、加热器H5、冷却盘管H6等控制药液的构件。玻璃基板I是由送料区A藉由输送导轮G输送进入蚀刻室B浸泡槽B1，滚轮停止运行，浸泡泵H1打入药液至浸泡槽B1，使浸泡槽B1内的药液覆盖玻璃基板I，玻璃基板I浸泡一段时间后，送料导轮G启动，将玻璃基板I运送至初步洗净室C。玻璃基板I一端(以下称首端)先进入初步洗净室C清洗，尔后另一端(以下称末端)被送料导轮G带动也进入初步洗净室C接受清洗，将残留在基板上的药液及副生成物初步冲掉。

由于现有技术中蚀刻过程是等待基板完全进入浸泡槽，并静置于送料导轮上，才供给药液至浸泡槽，如此便延长了基板在蚀刻阶段的时间；另一方面，蚀刻过程，是基板全面同步接受浸泡槽的药液浸泡，浸泡后由基板首端先离开浸泡槽，同时末端还浸泡于槽内，这样的传输运作会造成玻璃基板首、末两端接触药液的时间不同，而导致蚀刻程度不同，使蚀刻结果不均匀。又，在浸泡过程中，必须不断的更新药液方能维持药液的浓度。

实用新型内容

在现有技术的蚀刻制程，需待玻璃基板完全静置于浸泡槽后，方开始进行蚀刻作业，会造成蚀刻阶段的工时过长问题，因此本实用新型主要目的，是提供一种能节省蚀刻时间的蚀刻设备。

在玻璃基板在被蚀刻的过程中，基板首、末端接触药液的时间不同，会导致蚀刻不均的情形，因此本实用新型另一目的是提供一种能使基板被均匀蚀刻的蚀刻设备。

在玻璃基板在浸泡药液的过程中，完全未更换药液，蚀刻下所产生的物质可能影响药液浓度，药液温度也会随蚀刻时间增长而受影响，因此本实用新型又一目的是使板表面各处能同时且均匀的接触新药液。

为了达到上述目的，本实用新型提供了一种蚀刻设备，该设备包含：

一浸泡槽，其内面两侧分别设有一入料浮动轮及一出料浮动轮；

一送料导轮，用以承载一基板，使该基板可通过该入料浮动轮而进入该浸泡槽；

一喷洒统，其为该浸泡槽的外接系统，包含有一药液工作槽以及接受该药液工作槽供应药液的多个喷源，喷源是平均设置并相应于该浸泡槽上方，该药液工作槽与该浸泡槽之间以管路相连以补给或回收药液；

该喷洒统与该送料导轮受蚀刻设备中的一电控部所控制。

所述浸泡槽的外侧设置两个分别相应于所述入料浮动轮及该出料浮动轮的出气装置。

该出气装置为具有狭长缝隙，能释放出压缩空气的风刀。

所述入料浮动轮及所述出料浮动轮是重迭于一平台上，且可相对于该平台纵向移动微小距离。

本实用新型蚀刻程序，是使基板进入浸泡槽的同时便接触了药液，故可节省蚀刻时间。又，配合着送料导轮的运行，使基板的首端先进入浸泡槽接触到药液，蚀刻结束时，也是由基板的首端先离开浸泡槽，如此便能使基板首、末两端接触药液的时间相同，可得到均匀的蚀刻度。再者，在浸泡槽的蚀刻过程中，送料导轮带动机板前、后移动，配合着喷源不断喷出新的药液，使基板表面的各处能同时接触新的药液且可使基板表面的光学膜均匀的被蚀刻。

附图说明

图1为本实用新型实施例中蚀刻设备的示意图。

图2为现有技术中的一种蚀刻设备。

具体实施方式

以下配合图式对本实用新型的实施方式做更详细的说明，使熟悉本领域的技术人员在研读本说明书后能据以实施。