[实用新型]反向阻断二极晶闸管无效

专利信息
申请号: 200920086844.7 申请日: 2009-06-24
公开(公告)号: CN201430143Y 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 颜家圣;张桥;吴拥军;杨成标;刘小俐 申请(专利权)人: 湖北台基半导体股份有限公司
主分类号: H01L29/74 分类号: H01L29/74;H01L29/36;H01L21/332
代理公司: 襄樊嘉琛知识产权事务所 代理人: 严崇姚
地址: 441021湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 反向 阻断 二极 晶闸管
【权利要求书】:

1、一种反向阻断二极晶闸管,包括管壳和封装在该管壳内的晶闸管芯片,晶闸管芯片为P1阳极发射区(3)、N1长基区(4)、P2短基区(5)、N2阴极发射区(6)四层结构,P1阳极发射区(3)外为烧结欧姆接触层(2)和阳极钼片(1),N2阴极发射区(6)设有阴极表面金属镀层(7),晶闸管芯片台面设有保护胶层(9),其特征是:所述的晶闸管芯片N2阴极发射区(6)设有特别阴极区(8),该区域及其下方的杂质浓度高于N2阴极发射区(6),并在N2阴极发射区(6)和P2短基区(5)的界面形成阴极沟道(10)。

2、根据权利要求1所述的一种反向阻断二极晶闸管,其特征是:所述的特别阴极区(8)位于晶闸管芯片中心。

3、根据权利要求1或2所述的一种反向阻断二极晶闸管,其特征是:所述的特别阴极区(8)为刻蚀槽,在该刻蚀槽(8)下方及周围形成浓度高于N2阴极发射区(6)浓度的高浓度N型区,且高浓度N型区伸入P2短基区(5),形成阴极沟道(10)。

4、根据权利要求3所述的一种反向阻断二极晶闸管,其特征是:所述的N2阴极发射区(6)是单窗口扩散形成的整块式阴极发射区。

5、根据权利要求3所述的一种反向阻断二极晶闸管,其特征是:所述的N2阴极发射区(6)是多窗口扩散形成的分块式阴极发射区。

6、根据权利要求2所述的一种反向阻断二极晶闸管,其特征是:所述的特别阴极区(8)是直接在晶闸管芯片中心部位进行选择扩散形成的,该扩散也使N2阴极发射区(6)的结深向P2短基区(5)推进,形成阴极沟道(10)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北台基半导体股份有限公司,未经湖北台基半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920086844.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top