[实用新型]反向阻断二极晶闸管无效
申请号: | 200920086844.7 | 申请日: | 2009-06-24 |
公开(公告)号: | CN201430143Y | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
发明(设计)人: | 颜家圣;张桥;吴拥军;杨成标;刘小俐 | 申请(专利权)人: | 湖北台基半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/74 | 分类号: | H01L29/74;H01L29/36;H01L21/332 |
代理公司: | 襄樊嘉琛知识产权事务所 | 代理人: | 严崇姚 |
地址: | 441021湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反向 阻断 二极 晶闸管 | ||
1、一种反向阻断二极晶闸管,包括管壳和封装在该管壳内的晶闸管芯片,晶闸管芯片为P1阳极发射区(3)、N1长基区(4)、P2短基区(5)、N2阴极发射区(6)四层结构,P1阳极发射区(3)外为烧结欧姆接触层(2)和阳极钼片(1),N2阴极发射区(6)设有阴极表面金属镀层(7),晶闸管芯片台面设有保护胶层(9),其特征是:所述的晶闸管芯片N2阴极发射区(6)设有特别阴极区(8),该区域及其下方的杂质浓度高于N2阴极发射区(6),并在N2阴极发射区(6)和P2短基区(5)的界面形成阴极沟道(10)。
2、根据权利要求1所述的一种反向阻断二极晶闸管,其特征是:所述的特别阴极区(8)位于晶闸管芯片中心。
3、根据权利要求1或2所述的一种反向阻断二极晶闸管,其特征是:所述的特别阴极区(8)为刻蚀槽,在该刻蚀槽(8)下方及周围形成浓度高于N2阴极发射区(6)浓度的高浓度N型区,且高浓度N型区伸入P2短基区(5),形成阴极沟道(10)。
4、根据权利要求3所述的一种反向阻断二极晶闸管,其特征是:所述的N2阴极发射区(6)是单窗口扩散形成的整块式阴极发射区。
5、根据权利要求3所述的一种反向阻断二极晶闸管,其特征是:所述的N2阴极发射区(6)是多窗口扩散形成的分块式阴极发射区。
6、根据权利要求2所述的一种反向阻断二极晶闸管,其特征是:所述的特别阴极区(8)是直接在晶闸管芯片中心部位进行选择扩散形成的,该扩散也使N2阴极发射区(6)的结深向P2短基区(5)推进,形成阴极沟道(10)。
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