[实用新型]一种研磨抛光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及研磨抛光领域，更具体的说涉及一种适用于石材、地砖以及瓷砖的研磨抛光装置。 

背景技术

目前有一种可用于磨抛、涂抹和腹膜作业的行星式抛磨盘，该行星式抛磨盘具有转盘、磨盘和转轴，该转轴穿过转盘的轴心而固定在转盘上，并驱动转盘转动；该磨盘为多个并可转动地设置在转盘上，其中每个磨盘的非磨抛一侧还连接有齿轮，该转轴上还设有太阳轮，该太阳轮可沿转轴轴向自由滑动，但其周向固定在机架上，使得该太阳轮不能转动，故使得太阳轮和转盘之间产生转速差，并由于该太阳轮与所有齿轮通过同一条传送带而相互传动以及该磨盘均可转动地连接在转盘上，从而带动磨盘实现自转。同时其还设置有张紧轮，从而确保传送带处于张紧的状态而使得各个磨盘的线速度一致。 

但是，为了对被加工物的表面进行加工，该磨盘上还会施以诸如金刚石等磨料，从研磨和抛光的理论与实践角度看，该磨盘必须具有足够大的线速度，才能生产满足实际所需切削效果的切削力，这样采用上述结构就必须使得转盘高速运转，才能使磨盘具有磨抛的效用；现有的自转仅能达到让内圈转到外圈而使得磨抛均匀而已，即上述结构产生的真正切削力还必须靠转盘转速来达成，但是由于转盘的体积本来就比较大，从而在动平衡控制上容易出现隐患而使得磨抛效果不理想。进一步，由于该张紧轮的设置不具有对称性，从而会使得整个研磨抛光装置失去动平衡，最终造成整个转盘发生偏摆及振动，进而在磨抛过程中直接影响到被加工物的平坦度、平面度以及光泽度。 

有鉴于此，本发明人针对现有技术中磨抛效果不好的缺陷深入研究，并有本案产生。 

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种研磨抛光装置，从而解决现有技术中磨抛效果不好的问题。 

为了达成上述目的，本实用新型的解决方案是： 

一种研磨抛光装置，包括转盘、可转动且对称设置在转盘上的多个磨盘以及与转盘固定相连并驱动转盘转动的主转轴，每一磨盘非磨抛的一侧还设置有传送轮，该转盘轴心处还设置有太阳轮，该太阳轮与所有传送轮通过传送带而相互传动，其中，该研磨抛光装置还包括次转轴，该次转轴与太阳轮相连而保持同步转动，该主转轴与次转轴同轴设置。 

该主转轴通过轴承而套设在次转轴外周。 

该主转轴外侧形成与转盘平行设置的法兰盘，该法兰盘沿圆周方向等分地设置有向下延伸而与转盘固定的固定柱。 

该主转轴和次转轴都具有动力输入端，该次转轴的动力输入端突出于该主转轴的动力输入端。 

该太阳轮和转盘之间还设置有轴承。 

该次转轴通过轴承而套设在主转轴外周。 

该传送带为时规皮带。 

采用上述结构后，由于增设有带动太阳轮转动的次转轴，从而在实现磨盘的磨抛效用时，本实用新型涉及的一种研磨抛光装置为了实现磨盘的高速转动，只需直接通过次转轴的驱动而带动磨盘高速转动即可，该转盘为了达到全面磨抛而只需进行低速旋转。这样由于转盘的转速偏低，故当需要增加转盘面积时可以轻易实现，通过由于磨盘的面积较小，其动平衡好，故振动低，进而能实现极佳的磨抛效果，同时本实用新型不具有张紧轮，故使得整个转盘的质量排布对称，进而使得整个转盘具有极佳的动平衡而提高了整体的磨抛质量。 

附图说明

图1为本实用新型第一实施例的整体结构示意图； 

图2为图1中传动机构与转盘之间连接关系的局部放大示意图； 

图3为本实用新型第一实施例中传动机构的分解示意图； 

图4为图3中传动机构的剖视图； 

图5为本实用新型第二实施例的剖视图； 

图6为本实用新型第二实施例的整体结构示意图； 

图7为转盘上传送轮的一种排布示意图； 

图8为本实用新型中转盘、太阳轮及磨盘三者的分解示意图。 

图中： 

研磨抛光装置        100        主转轴        1 

主转轴动力输入端    11         法兰盘        12 

固定柱              13    转盘          2 

磨盘                3     传动轮        31 

传送带              32    传动轴        33 

固定件              34    弹性垫        35 

太阳轮              4     次转轴        5