[发明专利]二次电池用正极组合物及其制造方法以及使用该二次电池用正极组合物的二次电池无效

专利信息
申请号: 200980000027.8 申请日: 2009-01-23
公开(公告)号: CN101689634A 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: 高草英博;冈田实;和田晴树;羽田正二;岩田政司 申请(专利权)人: 恩梯梯数据先端技术股份有限公司
主分类号: H01M4/62 分类号: H01M4/62;H01M4/14;H01M4/20
代理公司: 北京华夏正合知识产权代理事务所 代理人: 韩登营
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 二次 电池 正极 组合 及其 制造 方法 以及 使用
【权利要求书】:

1.一种二次电池用正极组合物,其特征在于:其用于涂填到板栅状集电体上或涂抹到薄型集电体上,是以金属氧化物为主成分的活性物质原料中添加碳及硅石多孔体而成的混合物,其中,该混合物干燥后但未化成时的比容在2.6×10-1ml/g以上。

2.根据权利要求1所述的二次电池用正极组合物,其特征在于:其为用聚乙烯醇水溶液将上述碳混合而形成混合中间物后,再向该混合中间物中添加上述活性物质原料及上述硅石多孔体并和膏而形成的混合物。

3.根据权利要求1所述的二次电池用正极组合物,其特征在于:其为用聚乙烯醇水溶液将上述碳和上述硅石多孔体混合而形成中间物后,再向该中间物中添加上述活性物质原料并和膏而形成的混合物。

4.一种二次电池用正极组合物,其特征在于:其为以金属氧化物为主成分的活性物质原料中添加碳以及硅石多孔体而形成的混合物。

5.根据权利要求4所述的二次电池用正极组合物,其特征在于:其为用聚乙烯醇水溶液将上述碳混合而形成混合中间物后,再向该混合中间物中添加上述活性物质原料以及上述硅石多孔体并和膏而形成的混合物。

6.根据权利要求4所述的二次电池用正极组合物,其特征在于:其为用聚乙烯醇水溶液将上述碳和上述硅石多孔体混合而形成混合中间物后,再向该混合中间物中添加上述活性物质原料并和膏而形成的混合物。

7.一种二次电池用正极组合物,其特征在于:其用于涂填到板栅状集电体上或涂抹到薄型集电体上,是以金属氧化物为主成分的活性物质原料中添加硅石多孔体却不添加碳而形成的混合物,其中,该混合物干燥后但未化成时的比容在2.5×10-1ml/g以上。

8.一种二次电池用正极组合物,其特征在于:其为以金属氧化物为主成分的活性物质原料中添加硅石多孔体却不添加碳的混合物。

9.根据权利要求1~8任意一项所述的二次电池用正极组合物,其特征在于:上述硅石多孔体相对于上述活性物质原料的摩尔百分比在7.3%以上。

10.根据权利要求1~9任意一项所述的二次电池用正极组合物,其特征在于:上述混合物中添加的上述硅石多孔体是硅藻土、珍珠岩或白砂中空颗粒。

11.根据权利要求1~10任意一项所述的二次电池用正极组合物,其特征在于:上述混合物中含微量的硫酸。

12.一种二次电池用正极组合物,其特征在于:其为以金属氧化物为主成分的活性物质原料中添加碳以及中空纤维而成的混合物。

13.根据权利要求12所述的二次电池用正极组合物,其特征在于:其为用聚乙烯醇水溶液将上述碳混合而形成混合物后,再向该混合物中添加以金属氧化物为主成分的活性物质原料及上述中空纤维并和膏而形成的混合物。

14.根据权利要求12所述的二次电池用正极组合物,其特征在于:其为用聚乙烯醇水溶液将上述碳和中空纤维混合而形成混合物后,再向该混合物中添加上述活性物质原料并和膏而形成的混合物。

15.一种二次电池用正极组合物的制造方法,其特征在于:由单独一工序用聚乙烯醇水溶液将上述碳混合而形成混合中间物,之后再向该混合中间物中添加上述活性物质原料以及上述硅石多孔体并和膏而形成混合物。

16.一种二次电池用正极组合物的制造方法,其特征在于:由单独一工序用聚乙烯醇水溶液将上述碳和上述硅石多孔体混合而形成混合中间物,之后再向该混合中间物中添加上述活性物质原料并和膏而形成混合物。

17.根据权利要求15或者16所述的二次电池用正极组合物的制造方法,其特征在于:上述混合物中添加的上述硅石多孔体是硅藻土、珍珠岩或白砂中空颗粒。

18.根据权利要求15~17任意一项所述的二次电池用正极组合物的制造方法,其特征在于:在上述混合物中添加微量硫酸。

19.一种二次电池,其特征在于:其使用权利要求1~14的任意一项所述的二次电池用正极组合物或者使用根据权利要求15~18的任意一项所述的二次电池用正极组合物的制造方法制成的二次电池用正极组合物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩梯梯数据先端技术股份有限公司,未经恩梯梯数据先端技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980000027.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top