[发明专利]真空输送装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于在真空室内分别沿3轴方向输送基板等输送物的真空输送装置。 

背景技术

例如，在半导体制造装置、平板显示器制造装置等中，将真空输送装置用作由真空容器等构成的真空室内的基板的输送部件。 

作为用于在真空室内输送基板的基板输送装置的代表结构，公知有专利文献1的图10中公开的那样的结构。 

在该专利文献1中，在真空容器的外侧配置有电源、控制所使用的驱动系统，借助真空法兰(vacuum flange)连接该驱动系统。在真空容器内实际上仅收容有用于保持并输送基板的臂部，采用驱动系统和输送系统被真空容器分离开的结构。 

另外，基本上沿水平方向输送基板是以设置在真空容器内部的臂部的伸缩动作为基本动作来进行。通过利用产生旋转驱动力的旋转驱动机构将旋转动作作为驱动力从设置在真空容器外部的驱动系统传递到真空容器内部的臂部，且使臂部进行伸缩动作，从而能沿水平方向输送基板。 

真空容器内的沿铅直方向(升降方向)的基板的输送如下进行：在配置于真空容器外部的驱动系统的连接部设置金属制波纹管，能与该金属制波纹管的伸缩量(行程量)相应地进行铅直方向的输送。因而，在增大铅直方向的输送量的情况下，需要增大与真空容器的外部相连接的金属制波纹管的能伸缩的长度。 

为了谋求在半导体制造装置、平板显示器制造装置的高生产率，近年来，由真空输送装置进行的基板的输送要求较大地确保基板的输送方向中的、沿铅直方向的输送量。另外，在真空输送装置中，输送时处理基板的环境也进一步要求清洁的环境。 

但是，在上述以往的真空输送装置的结构中，在增大沿铅直方向的输送量的情况下，随着配置在真空容器外部的金属制波纹管的行程量的增加，其长度的增加量也变为输送量的2～3倍。从而，金属制波纹管在真空容器外部所占的体积增大，因此，存在设置这样的真空输送装置所需要的体积随着沿铅直方向的输送量的增大而大幅度地增大的倾向。另外，水平方向(XY轴方向)的输送所用的旋转动作也依赖于通过较长的旋转轴的旋转动作的传递，因此，若减少转矩，则伴随着旋转轴直径的增加。 

作为抑制真空容器外部的金属制波纹管的长度增大的对策，专利文献2的图1中公开了用于改进驱动系统的部分的真空密封结构的结构。在该专利文献2的结构中，密封结构代替磁性流体密封而采用机械密封，具有密封部分与旋转轴的升降动作相应地浮动的机构。利用该结构，虽然金属制波纹管的长度自身减少，但并不是用于铅直运动所需要的体积减少。 

专利文献1：日本特开平9-131680号公报(图10) 

专利文献2：日本特开2005-161409号公报(图1) 

在上述以往的技术中，为了增大沿铅直方向的升降动作时的输送量，都必须要在真空容器的外部确保用于进行铅直运动的体积。在专利文献2所公开的结构中，能避免配置在真空容器外部的金属制波纹管的大型化。另一方面，在专利文献1、2所公开的结构中，由于在真空容器外部配置有用于实现沿铅直 方向所需的输送量的长度的驱动轴，导致真空容器大型化，存在不能削减设置真空输送装置所需要的体积的这样的不良情况。 

发明内容

因此，本发明的目的在于解决上述问题，提供一种能增加铅直方向上的输送物的输送量且削减设置真空输送装置所需要的体积、能谋求真空输送装置整体小型化的真空输送装置。 

为了达到上述目的，本发明的真空输送装置包括：用于沿二维方向输送输送物的二维输送部件；其自身不进行平移运动而用于支承二维输送部件的支承部件；在内部配置有二维输送部件及支承部件的真空室。其特征在于，支承部件能使二维输送部件沿与由二维输送部件形成的平面垂直的方向移动。 

采用本发明，通过在真空室的内部配置二维输送部件及支承部件，能够增加在与利用二维输送部件的输送方向垂直的方向上的输送物的输送量(升降量)且削减设置真空输送装置所需要的体积。因此，本发明能够使真空输送装置整体小型化。 

附图说明

图1是表示本实施方式的真空输送机械手的概略结构的立体图。 

图2是表示上述真空输送机械手所具有的水平输送机构及水平驱动部的剖视图。 

图3是表示上述真空输送机械手所具有的铅直输送机构及铅直驱动部的剖视图。 

图4是用于说明真空容器和基座的连接结构的模式图。 

图5是表示本发明的真空输送装置的使用形式的一个例子 的图。