[发明专利]与原子层沉积反应器相连接的装置

权利要求书

1.一种与原子层沉积反应器相连接的装置，所述原子层沉积反应器包括反应腔室，所述装置包括用来将反应气体供给到所述反应腔室(2)并且用来回吸所述反应气体的部件，以及用来供给阻隔气体的部件，其特征在于，

用来供给与回吸所述反应气体和用来供给所述阻隔气体的部件包括：中间元件(3)，该中间元件具有延伸通过该中间元件的多个相平行的通道(4至7)；以及第一回流元件和第二回流元件(8，9)，所述第一回流元件和第二回流元件被布置在所述中间元件(3)的两端，所述通道(4至7)通到所述第一回流元件和第二回流元件中，所述第一回流元件和第二回流元件(8，9)被布置成将所述中间元件(3)中的各通道加以组合从而提供通道间的流动。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，面对着所述中间元件(3)的所述回流元件(8，9)的表面设有凹槽(15，24，17)，这些凹槽与所述中间元件(3)的表面一起，形成将所述通道相连接的流动路径。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，回流元件(8，9)设有用来供给阻隔气体的连接部(13，19)。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，背对着中间元件(3)的第二回流元件(9)的表面设有凹槽(20)，所述凹槽与设置在第二回流元件(9)的顶部的封盖元件(21)一起，形成用于所述阻隔气体的流动路径。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述第二回流元件(9)设有第二钻孔(18)，这些第二钻孔被布置为形成从在背对着所述中间元件的表面上的凹槽(20)流到在面对着所述中间元件的表面上的凹槽(17)的阻隔气体流的连接部。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，在所述第二钻孔(18)内设有用以提供流动阻滞的调节元件(22)或者缩小部分。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，在延伸通过所述中间元件(3)的至少一个通道(5)内设有用以提供流动阻滞的调节元件(16)或者缩小部分。

8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述中间元件(3)的中部设有收集通道(7)，其它通道(4，5，6)辐射状地并且对称地围绕该收集通道，从而当沿径向方向观察时，每个通道被布置成与相邻的通道流通连接并且还与所述收集通道流通连接。

9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述中间元件(3)用块状工件形成，所述通道(4至7)通过在所述块状工件上钻孔而形成。

10.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，由所述中间元件(3)以及所述第一回流元件和第二回流元件(8，9)形成的实体通过一个法兰结构(10)被固定到气体源，从而所述法兰结构的气体连接部(11，12)和第一回流元件的钻孔(13，14，19)形成从所述气体源经由所述中间元件(3)到所述反应腔室(2)的均匀流动路径。

11.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，通道(5)被布置成通过在所述第二回流元件(9)中形成的凹槽(25)而与共用的排放部件(23)流通连接。

12.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，设有用于密封整个装置的共用密封构件(27)，该共用密封构件被布置成与所述法兰结构(10)相连接。

13.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述装置被结合到所述反应器的其它布置线路中。

14.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述装置被布置成作为所述反应器的辅助加热设备的一部分。