[发明专利]光刻机的双工件台系统

权利要求书

1.一种光刻机的双工件台系统，包括：

沿平行于X向设置的导向表面；

第一硅片台和第二硅片台，其沿平行于X向和Y向从第一位置移动到第二位置；

置换系统，设置成沿该导向表面移动，其特征在于：该置换系统包括：

沿平行于Y向设置的第一置换单元和第二置换单元，第一硅片台和第二硅片台各自设置于第一置换单元和第二置换单元上并在各自的第一置换单元和第二置换单元上沿平行于Y向移动，第一置换单元和第二置换单元相互对接，使第一硅片台和第二硅片台交换位置。

2.如权利要求1所述的光刻机的双工件台系统，其特征在于：该光刻机的双工件台系统具有预处理工位区域和曝光工位区域。

3.如权利要求2所述的光刻机的双工件台系统，其特征在于：该第一置换单元和第二置换单元分别为在预处理工位区域和曝光工位区域上一端藕接至各自的导向表面并沿对应的导向表面移动的第一Y向导轨和第二Y向导轨，该相邻工位区域的第一Y向导轨和第二Y向导轨的另一端以藕接方式对接。

4.如权利要求3所述的光刻机的双工件台系统，其特征在于：该第一硅片台和第二硅片台各自藕接至相邻工位区域的第一Y向导轨和第二Y向导轨的相对两侧边，相邻工位区域的第一Y向导轨和第二Y向导轨对接后，第一硅片台和第二硅片台沿对接后的第一Y向导轨和第二Y向导轨的相对两侧各自移动至对方的工位区域。