[发明专利]双断口真空灭弧室无效
| 申请号： | 201010147463.2 | 申请日： | 2010-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN101894706A | 公开（公告）日： | 2010-11-24 |
| 发明（设计）人： | 刘箭飞;魏杰;杨冬梅;谢国良;刘志远 | 申请（专利权）人： | 北京双杰电气股份有限公司;西安交通大学 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 北京双收知识产权代理有限公司 11241 | 代理人： | 吴杰 |
| 地址： | 100085 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 断口 真空 灭弧室 | ||
【权利要求书】：
1.一种双断口真空灭弧室，包括绝缘外壳(1)、设置在绝缘外壳(1)内的静组件(2)和动组件(3)，其特征在于：所述绝缘外壳(1)内腔上部的凸棱(11)上设置有中间隔离屏蔽罩(4)，所述中间隔离屏蔽罩(4)位于静组件(2)与动组件(3)之间，所述中间隔离屏蔽罩(4)为圆环。
2.如权利要求1所述的双断口真空灭弧室，其特征在于：所述中间隔离屏蔽罩(4)设置于所述凸棱(11)上部，且所述中间隔离屏蔽罩(4)与所述凸棱(11)之间设有截面为弧形的上小下大的桶形支撑(5)。
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