[发明专利]玻璃基板减薄蚀刻液及其制备方法与应用无效
| 申请号： | 201010186360.7 | 申请日： | 2010-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN101880129A | 公开（公告）日： | 2010-11-10 |
| 发明（设计）人： | 冯卫文 | 申请（专利权）人： | 合肥茂丰电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 关畅 |
| 地址： | 安徽省合肥市合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 玻璃 基板减薄 蚀刻 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种蚀刻液，是由硝酸、乙二胺四乙酸、水和磺酸组成，所述磺酸选自甲基磺酸和三氟甲磺酸中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于：所述硝酸、乙二胺四乙酸和所述磺酸占所述蚀刻液总重的百分比分别为：20-40％、0.5-5％和5-35％，余量为水。
3.根据权利要求1或2所述的蚀刻液，其特征在于：所述磺酸为甲基磺酸和三氟甲磺酸的混合物时，每100份所述蚀刻液中，所述甲基磺酸和所述三氟甲磺酸的重量份数比为5-25∶1-10。
4.根据权利要求1-3任一所述的蚀刻液，其特征在于：所述蚀刻液是按照权利要求5-7任一所述方法制备而得。
5.一种制备权利要求1-4任一所述蚀刻液的方法，包括如下步骤：将硝酸、乙二胺四乙酸、水和磺酸在20～30℃混匀，得到所述蚀刻液；所述磺酸选自甲基磺酸和三氟甲磺酸中的至少一种。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于：所述硝酸、乙二胺四乙酸和所述磺酸占所述蚀刻液总重的百分比分别为：20-40％、0.5-5％和5-35％，余量为水。
7.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于：其特征在于：所述磺酸为甲基磺酸和三氟甲磺酸的混合物时，每100份所述蚀刻液中，所述甲基磺酸和所述三氟甲磺酸的重量份数比为5-25∶1-10。
8.权利要求1-4任一所述蚀刻液在制备玻璃基板减薄用蚀刻液中的应用。
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