[发明专利]一种高硬度自洁釉及制备方法

权利要求书

1.一种高硬度自洁釉，其特征在于，所述自洁釉原料组成包括如下质量份的物质：钾长石8-16，石英10-18，高岭土2，三氧化二铝1-4，方解石1-4，硅酸锆1-3，熔块59-69，其中硅酸锆平均粒径为1～1.5um，熔块的熔融温度为1500～1700℃。

2.根据权利要求1所述的高硬度自洁釉，其特征在于：所述原料加入如下质量份的物质：氧化锌1-4，滑石1-4。

3.根据权利要求2所述的高硬度自洁釉，其特征在于：所述原料由如下质量份的物质组成：钾长石12，石英14，高岭土2，三氧化二铝3，方解石2，硅酸锆2，熔块63，氧化锌1，滑石1。

4.根据权利要求1或2或3所述的高硬度自洁釉，其特征在于，所述化学成分组成范围如下：SiO₂ 58-65％，Al₂O₃ 8-12，CaO 6-10％，K₂O 2-6％，ZnO 5-9％，ZrO₂ 0.5-0.8％，MgO 0.2-0.5％，Na₂O 0.5-1.0％，BaO 0.2-0.6％，Fe₂O₃≤0.05％，TiO₂≤0.03％，余量为杂质。

5.一种高硬度自洁釉制备方法，其特征在于：釉浆制备过程的主要工艺参数如下：釉浆粒度≤10um控制在70％～80％，釉浆浓度330-355g/200ml，釉浆流动性50-80V₀(s)，干燥速度5-14min/5ml。