[发明专利]一种纳米ZrO2/有机硅金属防腐涂层的制作方法

权利要求书

1.一种纳米ZrO₂/有机硅金属防腐涂层的制作方法，其特征在于：将纳米ZrO₂溶胶与有机硅前驱体反应杂化得到纳米ZrO₂/有机硅金属防腐溶胶，接着将纳米ZrO₂/有机硅金属防腐溶胶采用成膜手段在金属表面镀膜，并经低温加热固化，得到纳米ZrO₂/有机硅金属防腐涂层。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于：常温下，在三口烧瓶中依次加入抑制剂、醇和锆醇盐，机械搅拌均匀，在剧烈搅拌的条件下，缓慢滴加醇、去离子水和酸的混合溶液，搅拌反应10min～40h，得到纳米ZrO₂溶胶。

3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于：所述锆醇盐为正丁醇锆、异丙醇锆、正丙醇锆的其中一种，其重量比例为5％～80％；所述抑制剂为乙酰丙酮，其重量比例为0.2％～10％；所述去离子水的重量比例为0.01％～10％；所述醇为与锆醇盐相对应的醇，其重量比例为10％～90％。

4.根据权利要求2或3所述的制作方法，其特征在于：制备纳米ZrO₂溶胶添加的酸为甲酸、醋酸、硫酸、磷酸、硝酸中的任意一种，其重量比例为0.001％～5％。

5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于：常温下，在三口烧瓶中，加入有机硅单体和醇，机械搅拌均匀，然后滴加醇、去离子水和酸的混合溶液，搅拌反应0.5～70h，得到无色透明的有机硅前驱体。

6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于：所述有机硅单体采用γ-缩水甘油醚氧基三甲氧基硅烷(KH560)和乙烯基烷氧基硅烷或者γ-缩水甘油醚氧基三甲氧基硅烷(KH560)和苯基烷氧基硅烷，其中γ-缩水甘油醚氧基三甲氧基硅烷(KH560)的重量比例为5％～70％，乙烯基烷氧基硅烷或者苯基烷氧基硅烷的重量比例为5％～50％，去离子水的重量比例为0.01％～10％，醇为与锆醇盐相对应的醇，醇的重量比例为10％～88％。

7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于：所述乙烯基烷氧基硅烷为乙烯基三乙氧基硅烷或乙烯基三甲氧基硅烷，所述苯基烷氧基硅烷为苯基三乙氧基硅烷或苯基三甲氧基硅烷。

8.根据权利要求5或6或7所述的制作方法，其特征在于：制备有机硅前驱体添加的酸为甲酸、醋酸、硫酸、磷酸、硝酸中的任意一种，其重量比例为0.001％～5％。

9.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于：将该有机硅前驱体缓慢滴加到纳米ZrO₂溶胶中，常温下搅拌反应1～80h，得到纳米ZrO₂/有机硅金属防腐溶胶。

10.根据权利要求1或9所述的制作方法，其特征在于：所述成膜手段采用旋涂法、提拉法或喷涂法，所述涂层固化温度为70～110℃，固化时间为10min～4h。