[发明专利]触控面板、其形成方法以及触控显示装置

权利要求书

1.一种触控面板，具有一动作区及一框架区，该框架区围绕该动作区，该触控面板包括：

一基板；

一图案化第一导电层，设置于该基板的该动作区；

一遮蔽层，具有一第一部份与一第二部分，其中该第一部份设置于该图案化第一导电层上，该第二部分设置于该基板的该框架区；

一图案化第二导电层，设置于该遮蔽层上；以及

一保护层，全面性地覆盖在该基板之上。

2.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：该遮蔽层的材料为黑色绝缘遮光材料、彩色绝缘遮光材料或白色绝缘遮光材料其中之一或其组合。

3.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：该图案化第一导电层包括复数个第一岛状物，该遮蔽层的该第一部份包括复数个第二岛状物，且其中该第二岛状物设置在同一列或同一行的任两个相邻的该些第一岛状物之间。

4.如权利要求3所述的触控面板，其特征在于：该第二岛状物的尺寸小于该第一岛状物的尺寸。

5.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：该图案化第一导电层的材料包括一透明导电材料。

6.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：该图案化第二导电层包括一架桥结构以及一导线结构，该架桥结构设置于该遮蔽层的该第一部份上，该导线结构设置于该遮蔽层的该第二部份上，且其中该架桥结构的尺寸小于或等于该遮蔽层的该第一部份的尺寸。

7.如权利要求6所述的触控面板，其特征在于：该架桥结构的材料包括一透明导电材料或一金属材料，且该导线结构的材料包括一金属材料。

8.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：该保护层直接覆盖该图案化第二导电层、该图案化第一导电层、该遮蔽层，以及该基板。

9.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：该基板较该保护层更靠近一使用者的触碰位置。

10.一种触控显示装置，包括：

一如权利要求1所述的触控面板；以及

一显示面板，设置于该触控面板之下，其中该触控面板的该保护层邻近该显示面板。

11.一种触控面板的形成方法，包括：

提供一基板，具有一动作区及一框架区，其中该框架区围绕该动作区；

形成一图案化第一导电层于该基底的该动作区上；

形成一图案化遮蔽层于该图案化第一导电层上与该基底的该框架区上；

形成一图案化第二导电层于该图案化遮蔽层上；以及

形成一保护层，全面性地覆盖在该基板之上。

12.如权利要求11所述的触控面板的形成方法，其特征在于：形成该图案化第一导电层与该图案化第二导电层的步骤包括沉积、微影以及蚀刻制程。

13.如权利要求11所述的触控面板的形成方法，其特征在于：形成该图案化遮蔽层的步骤包括微影制程。

14.如权利要求11所述的触控面板的形成方法，其特征在于：形成该图案化遮蔽层的步骤在形成该图案化第一导电层的步骤之后进行，并且形成该图案化第二导电层的步骤在形成该图案化遮蔽层的步骤之后进行。

15.如权利要求11所述的触控面板的形成方法，其特征在于：该图案化遮蔽层的材料为黑色绝缘遮光材料、彩色绝缘遮光材料或白色绝缘遮光材料其中之一或其组合。

16.如权利要求11所述的触控面板的形成方法，其特征在于：该图案化第一导电层包括复数个第一岛状物，该图案化遮蔽层包括复数个第二岛状物以及一框架，且其中该第二岛状物设置在同一列或同一行的任两个相邻的该些第一岛状物之间。

17.如权利要求16所述的触控面板的形成方法，其特征在于：该第二岛状物的尺寸小于该第一岛状物的尺寸。

18.如权利要求16所述的触控面板的形成方法，其特征在于：该图案化第二导电层包括一架桥结构以及一导线结构，该架桥结构设置于该图案化遮蔽层的该些第二岛状物上，该导线结构设置于该图案化遮蔽层的该框架上，且其中该架桥结构的尺寸小于或等于一个该第二岛状物的尺寸。