[发明专利]一种用于大直径单晶位错的腐蚀清洗机有效
| 申请号： | 201010577650.4 | 申请日： | 2010-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN102485977A | 公开（公告）日： | 2012-06-06 |
| 发明（设计）人： | 曹孜;石宇;李惠;李晨 | 申请（专利权）人： | 有研半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 郭佩兰 |
| 地址： | 100088*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 直径 单晶位错 腐蚀 清洗 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于大直径单晶位错的腐蚀清洗机，其特征在于：它包括：储酸罐，清洗机箱体，箱体内设有供腐蚀或清洗硅锭、硅块、硅棒用的清洗槽，箱体的上部面板部位设有安全防护门，箱体的上部设接抽风系统的接口，还包括液体管路
部分、水气枪部分，在设备的底部装有活动脚轮。
2.根据权利要求1所述的一种用于大直径单晶位错的腐蚀清洗机，其特征在于：箱体的骨架部分采用不锈钢方管，不锈钢方管外包德国产3mm瓷白PVC板，保证了设备的整体强度和防腐。
3.根据权利要求1所述的一种用于大直径单晶位错的腐蚀清洗机，其特征在于：所述的箱体上部接抽风系统接口设在箱体后部，形成上双排风的抽风形式。
4.根据权利要求1所述的一种用于大直径单晶位错的腐蚀清洗机，其特征在于：槽外设有防止酸液外泄的防漏盘。
5.根据权利要求4所述的一种用于大直径单晶位错的腐蚀清洗机，其特征在于：防漏盘的底部为倾斜式。
6.根据权利要求1所述的一种用于大直径单晶位错的腐蚀清洗机，其特征在于：清洗槽底部设排液口和排水口。
7.根据权利要求1所述的一种用于大直径单晶位错的腐蚀清洗机，其特征在于：加液方式采用的是PVDF隔膜泵。
8.根据权利要求1所述的一种用于大直径单晶位错的腐蚀清洗机，其特征在于：设备排酸和排水采取分流排放。
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