[发明专利]具有改进的用于等离子体清洁处理的适应性的物体

权利要求书

1.一种适于在等离子体清洁装置中进行等离子体清洁处理的物体，所述物体包括：

第一外表面区域；

第二外表面区域，

其中所述物体构造并布置成与可去除盖协同操作，使得所述盖可连接至所述物体以覆盖所述第二外表面区域，和

其中与所述可去除盖连接的所述物体适于在等离子体清洁装置内被清洁，使得所述等离子体清洁装置不暴露给存在于第二外表面区域上的颗粒，和其中所述第一外表面区域在等离子体清洁装置内被清洁。

2.根据权利要求1所述的物体，其中所述第一外表面具有第一污染水平并且所述第二外表面具有第二污染水平，并且第二污染水平高于第一污染水平。

3.根据权利要求1所述的物体，其中所述物体是光刻设备内的衬底运输装置。

4.根据权利要求1所述的物体，其中所述物体是图案形成装置运输装置。

5.根据权利要求1所述的物体，包括紧固装置，所述紧固装置配置成将所述盖紧固至所述物体。

6.一种光刻设备，包括：

图案形成装置支撑件，配置成支撑图案形成装置，所述图案形成装置适于图案化辐射束以形成图案化的辐射束；

衬底台，配置成支撑衬底；

投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到所述衬底上，和

物体，适于在等离子体清洁装置内进行等离子体清洁处理，所述物体包括

第一外表面区域；

第二外表面区域，

其中所述物体构造并布置成与可去除盖协同操作，使得所述盖可连接至所述物体以覆盖所述第二外表面区域，和

其中与所述可去除盖连接的所述物体适于在等离子体清洁装置内被清洁，使得所述等离子体清洁装置不暴露给存在于第二外表面区域上的颗粒，和其中所述第一外表面区域在等离子体清洁装置内被清洁。

7.根据权利要求6所述的设备，其中所述第一外表面具有第一污染水平并且所述第二外表面具有第二污染水平，并且所述第二污染水平高于所述第一污染水平。

8.根据权利要求6所述的设备，其中所述物体是衬底运输装置。

9.根据权利要求6所述的设备，其中所述物体是图案形成装置运输装置。

10.根据权利要求6所述的设备，其中所述物体包括紧固装置，所述紧固装置配置成将所述盖紧固至所述物体。

11.一种适于在等离子体清洁装置中进行等离子体清洁处理的物体，所述物体包括：

第一外表面区域；

第二外表面区域；和

可去除盖，配置成覆盖所述第二外表面区域，

其中所述物体适于在所述等离子体清洁装置内清洁，使得所述等离子体清洁装置不暴露给存在于第二外表面区域上的颗粒，和其中所述第一外表面区域在所述等离子体清洁装置内被清洁。