[实用新型]锗区熔提纯设备有效

专利信息
申请号: 201020619238.X 申请日: 2010-11-23
公开(公告)号: CN201942732U 公开(公告)日: 2011-08-24
发明(设计)人: 朱知国;普世坤;苏炳贵;朱俊 申请(专利权)人: 云南临沧鑫圆锗业股份有限公司
主分类号: C22B41/00 分类号: C22B41/00;C22B9/02
代理公司: 昆明祥和知识产权代理有限公司 53114 代理人: 和琳
地址: 677000 云南省临沧市临*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 锗区熔 提纯 设备
【权利要求书】:

1.锗区熔提纯设备,包括相互连接的固态高频设备和加热提纯设备,以及用于控制的PLC控制器,其特征在于所述的加热提纯设备由进气装置、数个工作工位以及高频区栅栏(1)组成,工作工位与进气装置连接后放置在高频区栅栏(1)上;工作工位包括石英管(9)、加热线圈(8)、石墨舟(10)与传动装置(2),石英管(9)两端固定在高频区栅栏(1)的工作台(3)上;加热线圈(8)与固态高频设备连接,套在石英管(9)上;石墨舟(10)嵌在石英管(9)内;传动装置(2)与加热线圈(8)连接,带动加热线圈(8)沿石英管(9)移动。

2.如权利要求1所述的锗区熔提纯设备,其特征在于所述的工作工位为十三个,分成上、下两排放置,石英管(9)管口用胶塞(5)封闭。

3.如权利要求1所述的锗区熔提纯设备,其特征在于所述的进气装置包括气体分配器(7)、气体流量计(6)以及进气管,进气管穿过胶塞(5)固定在石英管(9)管口;气体流量计(6)安装在进气管上;气体分配器(7)与进气管连接。

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