[发明专利]薄膜渗透蒸发膜

权利要求书

1.一种渗透蒸发膜，其具有在多孔载体上的填充有聚集体的聚(1-三甲基甲硅烷基-1-丙炔)涂层，其中所述涂层的平均厚度为至多25μm。

2.根据权利要求1所述的渗透蒸发膜，其中所述多孔载体是多孔聚丙烯腈或聚偏氟乙烯膜。

3.根据权利要求2所述的渗透蒸发膜，其中所述多孔载体是多孔聚丙烯腈膜，并且所述填充有聚集体的聚(1-三甲基甲硅烷基-1-丙炔)涂层的平均厚度为2至25μm。

4.根据权利要求2所述的渗透蒸发膜，其中所述多孔载体是聚偏氟乙烯，并且所述填充有聚集体的聚(1-三甲基甲硅烷基-1-丙炔)涂层的平均厚度为0.5至25μm。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的渗透蒸发膜，其中所述填充有聚集体的聚(1-三甲基甲硅烷基-1-丙炔)涂层包括平均聚集体尺寸为至少50nm且小于200nm的聚集体。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的渗透蒸发膜，其中所述聚集体是二氧化硅或其它金属氧化物的颗粒的聚集体。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的渗透蒸发膜，其中穿过所述膜的(乙醇/水)渗透蒸发通量为至少2.0kg/(m².小时)，并且优选至少2.5kg/(m².小时)。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的渗透蒸发膜，其中所述渗透蒸发膜的分离因子为至少7，并且优选至少10。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的渗透蒸发膜，其中所述渗透蒸发膜包括附加的载体。

10.一种制造根据权利要求1至9中任一项所述的渗透蒸发膜的方法，所述方法包括：利用填充有聚集体的PTMSP溶液涂覆多孔载体以使所述涂层在干燥后的平均厚度至多为25μm的步骤。

11.一种制造渗透蒸发膜的方法，包括如下步骤：

(a)利用填充有聚集体的PTMSP溶液涂覆多孔载体；和

(b)在20至75℃的温度下，使所述多孔载体上的所述填充有聚集体的PTMSP溶液蒸发至少8小时，由此提供渗透蒸发膜，所述渗透蒸发膜具有在所述多孔载体上的填充有聚集体的PTMSP涂层。

12.根据权利要求11所述的方法，其中对步骤(b)的所述渗透蒸发膜进行热处理，由此除去残余溶剂。

13.根据权利要求11或12所述的方法，其中所述涂层的平均厚度为至多25μm。

14.一种通过渗透蒸发或纳滤来分离组分混合物的设备，所述设备包括根据权利要求1至9中任一项所述的渗透蒸发膜。

15.根据权利要求1至9中任一项所述的渗透蒸发膜在通过渗透蒸发或纳滤来分离组分混合物的过程中的用途。

16.根据权利要求15所述的用途，其中所述组分混合物是水和醇的混合物，并且在所述过程中，所述组分混合物分离成富醇组分和贫醇组分。