[发明专利]感光性树脂组合物

权利要求书

1.一种感光性树脂组合物，其包含40～90质量％(A)碱可溶性树脂、5～50质量％(B)具有烯属不饱和双键的化合物、1～20质量％(C)光聚合引发剂、0.001～2.5质量％(D)环氧硅烷化合物及0.005～1.0质量％(E)硫醇化合物。

2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中，前述(E)硫醇化合物为下述通式(I)所示的硫醇化合物：

HS-R₁        …(I)

式中，R₁为具有芳香性的基团。

3.根据权利要求2所述的感光性树脂组合物，其中，前述(E)通式(I)所示的硫醇化合物是该式中R₁具有芳香性的杂环化合物。

4.根据权利要求2所述的感光性树脂组合物，其中，前述(E)通式(I)所示的硫醇化合物为下述通式(II)所示的化合物：

式中，R₂为选自由SH、SR₃OR₄及NR₃R₄组成的组中的一种基团，R₃及R₄分别独立地为选自由H、碳原子数1～12的烷基及芳基组成的组中的一种基团。

5.根据权利要求2所述的感光性树脂组合物，其中，前述(E)硫醇化合物为下述通式(III)所示的化合物：

式中，R₅为选自由碳原子数1～3的烷基、碳原子数1～3的烷氧基、碳原子数1～3的烷硫基、SH及NR₆R₇组成的组中的一种基团，R₆及R₇分别独立地为选自由H、碳原子数1～12的烷基及芳基组成的组中的一种基团。

6.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中，前述(D)环氧硅烷化合物为下述通式(IV)所示的化合物：

(R₈O)₃Si-A-B      …(IV)

式中，R₈为碳原子数1～5的烷基，A为碳原子数1～4的烷基或-(D-O)_n-，D为碳原子数1～3的烷基，n为1～5的整数，B为具有下述通式(V)所示的官能团的基团。

7.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中，前述(A)碱可溶性高分子与前述(B)具有烯属不饱和双键的化合物的质量比为1.5～1.8∶1。

8.一种感光性树脂层压体，其是在支撑薄膜上层压由权利要求1～7中任一项所述的感光性树脂组合物形成的感光性树脂层而成的。

9.一种抗蚀图案形成方法，其特征在于，其包括以下工序：将权利要求8所述的感光性树脂层压体层压到透明电极上的层压工序；对该层压体进行曝光的曝光工序；以及对该曝光后的层压体进行显影的显影工序。

10.一种电极的制造方法，其特征在于，按照通过权利要求9所述的图案形成方法得到的抗蚀图案对前述透明电极进行蚀刻。

11.一种抗蚀图案形成方法，其特征在于，其包括以下工序：将权利要求8所述的感光性树脂层压体层压到铁系合金上的层压工序；对该层压体进行曝光的曝光工序；以及对该曝光后的层压体进行显影的显影工序。

12.一种铁系合金结构体的制造方法，其特征在于，按照通过权利要求11所述的图案形成方法得到的抗蚀图案对前述铁系合金进行蚀刻。